[发明专利]一种鞋底表面镀膜方法

说明书

技术领域

本发明涉及制鞋技术领域，尤其涉及一种鞋底表面镀膜方法。

背景技术

随着社会经济的发展，人们的生活质量水平日益提高，对鞋子档次质量和外观美观性的要求也越来越高，已经不再满足于TPU、EVA等材料本身所具有的颜色，人们希望能够在鞋子表面看到金属亮丽质感。因此通过将镀膜层应用在鞋革上，得到色泽艳丽、金属质感强的外观，深受消费者喜爱。

为了在塑料表面获得金属的外观效果，通常会通过电镀或真空镀膜等技术进行表面处理。其中用电镀方法处理时使用的电镀液中含有较多的有毒物质，容易造成环境污染，电镀后排污处理成本高，而且电镀外观表面大多为同一光亮度表面。所以目前塑料表面真空镀膜一般采用真空蒸发镀膜法，在真空中加热镀膜材料，使其在极短时间内蒸发，蒸发了镀膜材料分子沉积在塑料表面上形成镀膜层。此方法简单便利、操作容易、成膜速度快，效率高，但薄膜与基体结合较差，工艺重复性难，只能蒸发铝等低熔点金属。

发明内容

针对上述问题，本发明提供了一种鞋底表面镀膜方法，解决了现有技术中薄膜与鞋底结合较差、工艺重复性难，只能蒸发铝等低熔点金属的问题。

为解决上述技术问题，本发明所采用的技术方案是：一种鞋底表面镀膜方法，包括以下步骤：对鞋底进行清洗及干燥；对干燥后的鞋底进行Plasma表面处理；对经Plasma表面处理后的鞋底进行磁控溅射真空镀膜，所述磁控溅射真空镀膜为将Plasma表面处理后的鞋底，通入100-500sccm氩气，镀膜真空度保持在0.1-1Pa，在功率2-10KW下辉光放电产生的电子激发氩气电离产生等离子体，等离子体将靶材的原子击出沉积在鞋底上，镀膜时间0.5-30min，得到5-5000nm的镀膜层后，破真空将鞋底传出；对完成镀膜工艺的鞋底进行喷涂UV涂层及固化。

进一步的，所述Plasma表面处理为通过等离子体轰击对鞋底表面进行清洁处理，其中在真空度0.5-2Pa、电压1-3KV、电流在0.5-1A并通入300-1000sccm处理气体的plasma处理室进行，让处理气体产生电离，电离的气体离子轰击鞋底表面。

进一步的，所述处理气体为氢气、氧气、氩气中的至少一种，轰击时间为60S-180S。

进一步的，所述UV涂层厚度在5-30um之间，UV涂层采用UV固化，UV能量为1000-5000mj/cm²。

进一步的，所述对经Plasma表面处理后的鞋底进行磁控溅射真空镀膜为先在鞋底表面镀一层Ti金属膜，再在Ti金属膜上镀上镀膜层。

进一步的，所述镀膜层可以为铝、铜、钛、银、镍、铟、锡中任意一种。

进一步的，所述镀膜层还可以为金属复合物：氮化钛、氮化硅、镍铜、镍铬中任意一种。

和现有技术相比，本发明具有如下优点：先通过Plasma处理，提供干净的镀膜表面，使镀膜附着力更好，然后进行磁控溅射在鞋底表面镀膜，得到附着力强、致密性好的均匀金属镀膜层，最后在外表面喷涂UV固化胶，既提升鞋底的耐磨、防刮、抗腐蚀性能，又能保护镀膜金属层。本发明通过镀膜处理后的鞋底色泽艳丽、耐脏、耐黄变、金属质感强，可提升鞋底外观竞争力和附加价值，而且该方法工艺简单，镀膜室无需经常破真空，工艺稳定，镀膜重复性好，适用于各种镀膜材料。

附图说明

构成本申请的一部分的附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1为本发明一种鞋底表面镀膜方法的工艺流程图；

图2为本发明鞋底进行喷涂UV涂层及固化后的剖面结构图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

实施例1

如图1～2所示，本发明提供了一种鞋底表面镀膜方法。在鞋底11上用磁控溅射方式镀一层镀膜层12，然后在镀膜层12上喷涂UV固化胶13并用UV光源固化，最终得到金属质感强的鞋底。由于磁控溅射原子能量高，高能量的溅射原子沉积在鞋底表面时转换的能量多，甚至可发生部分注入现象，同时溅射成膜过程中，鞋底表面始终在等离子区中被清洗和激活，因此溅射镀膜与鞋底表面的附着力好，且膜层致密均匀。所述一种鞋底表面镀膜方法具体包括以下过程：

步骤S101、对鞋底进行清洗及干燥