[发明专利]具有低损耗和纳米级结构均匀的芯部的光学纤维在审
申请号: | 201610585995.1 | 申请日: | 2016-07-22 |
公开(公告)号: | CN106842412A | 公开(公告)日: | 2017-06-13 |
发明(设计)人: | 曼·F·延;皮特·I·波莱尔;汤姆·盖斯勒;拉斯穆斯·V·杨森;奥勒·A·勒弗灵;于尔根·奥斯特加德·奥尔森;戴维·W·派克汉姆;丹尼斯·J·特雷弗;帕特里克·W·韦斯科;B·朱 | 申请(专利权)人: | OFS菲特尔有限责任公司 |
主分类号: | G02B6/02 | 分类号: | G02B6/02 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 谭冀 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 损耗 纳米 结构 均匀 光学 纤维 | ||
1.一种光学纤维,包括:
多个同轴纤维区域,该多个同轴纤维区域包括芯部区域和周围的包层区域,其中该同轴纤维区域以各自的量和径向位置掺杂有一种或多种改变折射率的掺杂剂,所述各自的量和径向位置经配置以产生所选择的折射率分布,
其中该芯部区域以各自的量掺杂有一种或多种降低粘度的掺杂剂,所述各自的量经配置以使得在具有大约600cm-1的频移的拉曼光谱中,该纤维具有纳米级结构,该纳米级结构具有小于0.025的积分D2线缺陷强度。
2.如权利要求1的光学纤维,
其中该芯部区域以各自的量和径向位置掺杂有一种或多种降低粘度的掺杂剂,所述各自的量和径向位置经配置以使得该纤维在1550nm处具有低于0.18dB/km的衰减。
3.如权利要求1的光学纤维,
其中该芯部区域以各自的量和径向位置掺杂有一种或多种降低粘度的掺杂剂,所述各自的量和径向位置经配置以使得该纤维在1550nm处具有低于0.17dB/km的衰减。
4.如权利要求1的光学纤维,
其中以大于3米每秒的速度拉制该纤维。
5.如权利要求1的光学纤维,
其中该芯部区域掺杂有P、Cl和F掺杂剂,
其中P掺杂剂的量在0.2%和2%之间,
其中Cl掺杂剂的量在0和15,000ppm之间,且
其中F掺杂剂的量在0和150,000ppm之间。
6.如权利要求1的光学纤维,
其中该芯部区域掺杂有碱金属、卤素和磷共掺杂剂。
7.如权利要求6的光学纤维,
其中该芯部区域掺杂有K、Cl和P掺杂剂,
其中K掺杂剂的量在5和2,000ppm之间,
其中Cl掺杂剂的量在100和15,000ppm之间,且
其中P掺杂剂的量在0%和2%之间。
8.如权利要求6的光学纤维,
其中该芯部区域掺杂有Rb、Cl和P掺杂剂,
其中Rb掺杂剂的量在5和2,000ppm之间,
其中Cl掺杂剂的量在100和15,000ppm之间,且
其中P掺杂剂的量在0%和2%之间。
9.如权利要求6的光学纤维,
其中该芯部区域掺杂有Na、F和P掺杂剂,
其中Na掺杂剂的量在5和2,000ppm之间,
其中F掺杂剂的量在100和15,000ppm之间,且
其中P掺杂剂的量在0%和2%之间。
10.一种光学纤维,包括:
多个同轴区域,该多个同轴区域包括芯部区域和周围的包层区域,该芯部区域和周围的包层区域以各自的量和径向位置掺杂有一种或多种改变折射率的掺杂剂,所述各自的量和径向位置经配置以产生所选择的折射率分布,
其中该芯部区域以各自的量掺杂有一种或多种降低粘度的掺杂剂,所述各自的量经配置以使得该纤维具有残余轴向压缩应力,该残余轴向压缩应力具有大于20MPa的应力幅值和芯部半径的2倍和7倍之间的应力径向范围。
11.如权利要求10的光学纤维,
其中该芯部区域以各自的量掺杂有一种或多种降低粘度的掺杂剂,所述各自的量经配置以使得该纤维在1550nm处具有低于0.18dB/km的衰减。
12.如权利要求10的光学纤维,
其中该芯部区域以各自的量和径向位置掺杂有一种或多种降低粘度的掺杂剂,所述各自的量和径向位置经配置以使得该纤维在1550nm处具有低于0.17dB/km的衰减。
13.如权利要求10的光学纤维,
其中以大于3米每秒的速度拉制该纤维。
14.如权利要求10的光学纤维,
其中该压缩应力具有由在纤维的芯部区域中的碱金属、卤素和磷共掺杂剂的加入所形成的幅值和径向范围。
15.如权利要求14的光学纤维,
其中该芯部区域掺杂有K、Cl和P掺杂剂,
其中K掺杂剂的量在5和2,000ppm之间,
其中Cl掺杂剂的量在100和15,000ppm之间,且
其中P掺杂剂的量在0%和2%之间。
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