[发明专利]半导体元件有效

专利信息
申请号: 201610565349.9 申请日: 2016-07-18
公开(公告)号: CN106876341B 公开(公告)日: 2020-06-05
发明(设计)人: 王泰瑞;张祖强;鍾育华;陈韦翰;姚晓强 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 祁建国;梁挥
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 元件
【说明书】:

一种半导体元件,包括可挠式基板、阻隔层、绝热层、元件层、介电材料层以及应力吸收层。阻隔层配置于可挠式基板上。绝热层配置于阻隔层上,其中绝热层的导热系数小于20W/mK。元件层配置于绝热层上。介电材料层配置于元件层上,且介电材料层以及绝热层中包括至少一沟渠。应力吸收层配置于介电材料层上,且应力吸收层填入所述至少一沟渠中。

技术领域

发明是有关于一种半导体元件,且特别是一种耐挠曲性较佳的半导体元件。

背景技术

随着显示技术的进步,显示面板已朝向薄型化及可挠式发展,其中又以软性显示面板(可挠性显示器)逐渐成为显示面板往后发展的主要方向。利用可挠性基板取代传统硬质基板来制作软性显示面板,其可卷曲、方便携带、符合安全性及产品应用广。然而,为了因应未来产品需求及开发,需要制造出更小挠曲曲率半径的面板。就现有技术来说,目前市场上的面板结构仍然存在着耐挠曲性不佳的问题。

一般而言,传统的可挠性面板的应力会集中在薄膜电晶体上。由于应力的分布问题,其耐挠曲性不佳而容易造成面板的膜层破裂,进而使薄膜电晶体及电容特性会飘移及劣化。为了解决应力的分布问题,一般是将重要元件放置于应力中性轴区域。然而,由于面板组成太过复杂,因此,应力中性轴位置有可能在设计与实作上有偏差而导致效果降低。据此,如何解决现有的应力分布、面板耐挠曲性不佳的问题为目前所欲研究的主题。

发明内容

本发明提供一种半导体元件,可解决传统面板应力分布不佳的问题,并且可增加半导体元件的耐挠曲性。

本文所提出的半导体元件,包括可挠式基板、阻隔层、绝热层、元件层、介电材料层以及应力吸收层。阻隔层配置于可挠式基板上。绝热层配置于阻隔层上,其中绝热层的导热系数小于20W/mK。元件层配置于绝热层上。介电材料层配置于元件层上,其中,介电材料层以及绝热层中包括至少一沟渠。应力吸收层配置于介电材料层上,且应力吸收层填入所述至少一沟渠中。

基于上述,由于本发明的半导体元件的介电材料层以及绝热层中包括至少一沟渠,且应力吸收层填入所述至少一沟渠中。因此,本发明的半导体元件可用以解决应力分布不佳的问题,并且可增加半导体元件的耐挠曲性。

附图说明

图1为本发明一实施例半导体元件的剖面示意图;

图2A为本发明另一实施例半导体元件的剖面示意图;

图2B为本发明另一实施例半导体元件的剖面示意图;

图2C为本发明另一实施例半导体元件的剖面示意图;

图3为本发明第一实施例半导体元件的上视示意图;

图4A为图3延剖线A-A’的剖面示意图;

图4B为图3延剖线B-B’的剖面示意图;

图5为图3延剖线B-B’的另一实施例的剖面示意图;

图6为本发明第二实施例半导体元件的上视示意图;

图7为图6延剖线C-C’的剖面示意图;

图8为图6延剖线C-C’的另一实施例的剖面示意图;

图9为本发明第三实施例半导体元件的上视示意图;

图10为图9延剖线D-D’的剖面示意图;

图11为图9延剖线D-D’的另一实施例的剖面示意图;

图12为本发明第四实施例半导体元件的上视示意图;

图13为图12延剖线E-E’的剖面示意图;

图14为图12延剖线E-E’的一实施例的剖面示意图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于财团法人工业技术研究院,未经财团法人工业技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610565349.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top