[发明专利]透明导电薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种透明导电薄膜的制备方法，包括以下步骤：

步骤1、基底清洗：选择透明基底，分别在二次水、丙酮、异丙醇中超声清洗，每次超声清洗5～15分钟，然后在真空烘箱中干燥；

步骤2、第一次涂覆：清洗过的透明基底进行紫外臭氧处理5～10分钟，然后在该透明基底表面旋涂或刮涂一层80～100纳米厚的PEDOT:PSS薄膜；

步骤3、烘干：将步骤2涂覆的PEDOT:PSS薄膜在加热台上，以150摄氏度加热10～30分钟；

步骤4、第二次涂覆：在加热后的PEDOT:PSS薄膜表面，旋涂或刮涂改性液，厚度为10～30纳米；

步骤5、二次加热：将涂覆改性液的PEDOT:PSS薄膜在加热台上加热，以150摄氏度加热20分钟；

步骤6、冷却检验：将二次加热后的PEDOT:PSS薄膜冷却至室温，并将其转移至氮气保护气氛中检验；

其特征在于：所述透明基底为钠钙玻璃或者PET柔性材料，所述改性液由下列物质组成：3-环已胺基-2-羟基丙磺酸5～20 mg、二甲基亚砜0.1～0.2 ml、甲醇0.8～0.9ml，所述二次水为18兆欧的去离子水。

2.根据权利要求1所述的透明导电薄膜的制备方法，其特征在于：所述透明基底的透光率大于85%。

3.根据权利要求1所述的透明导电薄膜的制备方法，其特征在于：所述PEDOT:PSS薄膜的型号为Clevios PH 500或者Clevios PH 1000。

4.根据权利要求1所述的透明导电薄膜的制备方法，其特征在于：制备100纳米以上的透明导电薄膜，重复所述步骤 2 ～ 步骤5。