[发明专利]基于变去除函数的射流抛光面形误差控制方法

权利要求书

1.一种基于变去除函数的射流抛光面形误差控制方法，依次包括如下步骤：

（1）获取抛光工艺的去除函数：给定采斑时间，将喷嘴与轴线倾斜θ角度、并以角速度绕轴线回转喷嘴，获取多组不同的工艺参数下的抛光斑，通过拟合建立去除函数工艺参数η与去除函数形态之间的映射关系：

其中，令，为常数，是以抛光斑中心为原点的坐标系下的面形位置坐标；

（2）检测面形误差分布：采用干涉仪测量待加工光学镜面的面形误差分布，将检测得到的面形误差分布记为；

（3）建立抛光工艺的加工过程模型：在所述的光学镜面上等距选取个加工轨迹点，第个加工轨迹点的坐标记为，设第个加工轨迹点的驻留时间为，按顺序形成驻留时间向量；同时选取个加工控制点，第个加工控制点的坐标记为，各加工控制点的期望去除量为，按顺序形成期望去除量向量；加工控制点的材料去除量为，所有的按顺序组成材料去除向量，加工模型为，其中是的影响矩阵，其第行第列元素为；设射流抛光的工艺参数的上限为，下限为，计算在下的影响矩阵；

（4）求解工艺参数实现变去除函数修形：设机床最大速度为，通过内点法，求解如下的二次规划问题获得下的驻留时间：

，subjected to ；

计算匀速抛光时各轨迹点间的时间, 计算驻留时间释放比；记为第个轨迹点处的工艺参数，求解方程在区间的实根，若方程的根小于，取，若方程的根大于，取；

（5）通过数控加工控制面形精度：生成包含刀具轨迹点、进给速度、各轨迹点对应的工艺参数的数控程序，将数控程序加载到带工艺参数控制的数控系统中执行加工，利用干涉仪测量加工后的面形，如果精度满足要求，则完成抛光；否则返回至步骤（2）。

2.根据权利要求1所述的基于变去除函数的射流抛光面形误差控制方法，其特征在于：所述的工艺参数为喷嘴压强。