[发明专利]用于抑制铜钌阻挡层电偶腐蚀的碱性抛光液及其制备方法有效
申请号: | 201610545107.3 | 申请日: | 2016-07-12 |
公开(公告)号: | CN106118495B | 公开(公告)日: | 2019-01-08 |
发明(设计)人: | 王辰伟;刘玉岭;牛新环;张乐;孙鸣 | 申请(专利权)人: | 河北工业大学 |
主分类号: | C09G1/18 | 分类号: | C09G1/18;C23F3/04 |
代理公司: | 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 | 代理人: | 李蕊 |
地址: | 300130 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 抑制 阻挡 层电偶 腐蚀 碱性 抛光 及其 制备 方法 | ||
【说明书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河北工业大学,未经河北工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610545107.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。