[发明专利]曝光方法

权利要求书

1.一种曝光方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1、提供一具有镜头的曝光机、一光罩、以及一待曝光的基板，所述光罩上设有第一对位标记，所述基板上设有对应所述第一对位标记的第二对位标记；

步骤2、将所述光罩及基板放置到曝光机上并进行对位，通过曝光机的镜头测量基板上的第二对位标记与光罩上的第一对位标记的重合精度，根据重合精度判断光罩是否发生形变，若重合精度不合格，则继续进行步骤3，若重合精度合格，则直接进行步骤4；

步骤3、测量光罩的当前温度值，并计算光罩的当前温度值与预设的标准温度值的差值，并输入曝光机，曝光机根据光罩的当前温度值与预设的标准温度值的差值来驱动镜头对光罩的形变进行补正；

补正时，在以光罩的中心点为原点的直角坐标系内，首先根据光罩上的各个点预存在曝光机内的原始坐标值计算得出各个点在当前温度下沿x轴和y轴的偏移量，再根据各个点在当前温度下沿x轴和y轴的偏移量驱动镜头以补正光罩的形变，所述各个点在当前温度下沿x轴和y轴的偏移量的计算公式为：

x’＝x×a×t；

y’＝y×a×t；

其中，x为光罩上的一点的预存在曝光机内的原始坐标值的横坐标值，y为光罩上的一点的预存在曝光机内的原始坐标值值的纵坐标值，x’为该点在当前温度下的沿x轴的偏移量，y’为该点在当前温度下的沿y轴的偏移量，a为光罩的热膨胀系数，t为当前温度值与预设的标准温度值的差值；

步骤4、利用曝光机及光罩对所述基板进行曝光。

2.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述第一对位标记与第二对位标记均为十字形。

3.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述光罩的形状为矩形。

4.如权利要求3所述的曝光方法，其特征在于，所述光罩的长为945mm，宽为800mm。

5.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述光罩的热膨胀系数为0.6×10^-6/℃。

6.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述步骤3中通过温度传感器测量所述光罩的当前温度值。

7.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述基板的形状为矩形。

8.如权利要求7所述的曝光方法，其特征在于，所述基板的长为1850mm，宽为1500mm。

9.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述预设的标准温度值为23℃。