[发明专利]一种新型甲醇过滤系统在审

专利信息
申请号: 201610523978.5 申请日: 2016-06-30
公开(公告)号: CN107551729A 公开(公告)日: 2018-01-09
发明(设计)人: 高红云 申请(专利权)人: 天津市迪克尔化学试剂有限公司
主分类号: B01D50/00 分类号: B01D50/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 301700 天津市*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 甲醇 过滤 系统
【说明书】:

技术领域

发明属于甲醛生产技术领域,具体涉及一种新型甲醇过滤系统。

背景技术

甲醛是一种无色,有强烈的剌激性气味的气体,易溶于水、醇和醚,甲醛在常温下是气态,通常以水溶液形式出现,甲醛是一种重要的有机原料,主要用于人工合成。随着工业的发展,甲醛作为原料的用途也越来越广泛,如合成纤维、皮革工业、医药、染料等。福尔马林具有杀菌和防腐能力,可浸制生物标本,其稀溶液(0.1-0.5%)农业上可用来浸种,给种子消毒。

工业上常用催化氧化法由甲醇制取甲醛,甲醛在工业上是由甲醇的催化氧化制备,因此甲醇的纯度直接关系到所制产品的质量,由天然气和煤化工生产的甲醇,含有微量的杂质,这些杂质是很难检测到的,特别是粗醇中所含杂质更多,因此,需要对甲醇进行预处理,以使甲醇中的纯度更高,从而提高甲醛的生产质量,但目前沿没有一种效果较好的甲醇过滤系统。

发明内容

本发明的目的在于解决上述技术问题而提供一种新型甲醇过滤系统。

为实现上述目的,本发明采用以下技术方案:

一种新型甲醇过滤系统,包括一具有中空内腔的壳体,所述壳体的上端开口,所述上端开口处设有密封盖,所述密封盖上设有出气口,所述壳体的下部上设有进气口,所述壳体的底部设有排污口,所述中空内腔中自上而下依次设有第一环形磁铁、活性碳过滤吸附层、过滤棉层以及第二环形磁铁,所述第一、二环形磁铁分别与所述活性碳过滤吸附层、过滤棉层间隔预设距离。

所述的活性碳过滤吸附层包括一网板,所述网板上通过滤布隔开设有多层活性碳颗粒。

所述第一、二环形磁铁与所述壳体的上端及下端间隔一定距离设置。

所述第一、二环形磁铁可以有效去除甲醇中的铁杂质,所述活性碳过滤吸附层以及过滤棉层可以有效去除甲醇中的硫化物以及氯化物等影响甲醛生产质量的杂质,通过上述的多级过滤及吸附,保证了过滤吸附后的甲醇的纯度得以有效地保证。

本发明通过在一具有中空内腔的壳体,所述壳体的上端开口,所述上端开口处设有密封盖,所述密封盖上设有出气口,所述壳体的下部上设有进气口,所述壳体的底部设有排污口,所述中空内腔中自上而下依次设有第一环形磁铁、活性碳过滤吸附层、过滤棉层以及第二环形磁铁,所述第一、二环形磁铁分别与所述活性碳过滤吸附层、过滤棉层间隔预设距离,当将甲醇自进气口通入并自所述出气口排出,可以有将甲醇中的硫化物等杂质以及铁除去,从而保证了甲醛生产过程中能提高甲醇质量,更好的保护银催化剂的洁性和使用寿命。

附图说明

图1所示为本发明实施例提供的一种新型甲醇过滤系统的结构示意图。

具体实施方式

下面,结合实例对本发明的实质性特点和优势作进一步的说明,但本发明并不局限于所列的实施例。

请参见图1,一种新型甲醇过滤系统,包括一具有中空内腔的壳体1,所述壳体的上端开口,所述上端开口处设有密封盖2,所述密封盖上设有出气口3,所述壳体的下部上设有进气口4,所述壳体的底部设有排污口5,所述中空内腔中自上而下依次设有第一环形磁铁6、活性碳过滤吸附层、过滤棉层8以及第二环形磁铁7,所述第一、二环形磁铁分别与所述活性碳过滤吸附层、过滤棉层间隔预设距离。

所述的活性碳过滤吸附层包括一网板9,所述网板内通过滤布10隔开设有多层活性碳颗粒,具体的,包括第一活性碳颗粒11、第二活性碳颗粒12以及第三活性碳颗粒13。

较优的,所述第一活性碳颗粒11、第二活性碳颗粒12以及第三活性碳颗粒13间的吸附空隙依次增大设置。

所述第一、二环形磁铁与所述壳体的上端及下端间隔一定距离设置。

进一步的,所述壳体的底部设有固定支座14。

本发明通过在一具有中空内腔的壳体,所述壳体的上端开口,所述上端开口处设有密封盖,所述密封盖上设有出气口,所述壳体的下部上设有进气口,所述壳体的底部设有排污口,所述中空内腔中自上而下依次设有第一环形磁铁、活性碳过滤吸附层、过滤棉层以及第二环形磁铁,所述第一、二环形磁铁分别与所述活性碳过滤吸附层、过滤棉层间隔预设距离,当将甲醇自进气口通入并自所述出气口排出,可以有将甲醇中的硫化物等杂质以及铁除去,从而保证了甲醛生产过程中能提高甲醇质量,更好的保护银催化剂的洁性和使用寿命。

以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

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