[发明专利]一种压环、反应腔室和半导体加工设备在审
申请号: | 201610522143.8 | 申请日: | 2016-07-05 |
公开(公告)号: | CN107579033A | 公开(公告)日: | 2018-01-12 |
发明(设计)人: | 李新颖;蒋秉轩;王宽冒 | 申请(专利权)人: | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687;H01L21/67 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人: | 彭瑞欣,张天舒 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 反应 半导体 加工 设备 | ||
1.一种压环,用于将晶片固定于基座上,所述压环包括环状本体和沿所述环状本体周向排布的若干个压爪,其特征在于,还包括设置在所述压爪底部的弹性部件,所述弹性部件与所述若干个压爪一一对应;并且,所述弹性部件在所述压环将所述晶片固定于基座上时产生压缩变形,并与所述晶片上表面的边缘区域弹性接触。
2.根据权利要求1所述的压环,其特征在于,每个所述弹性部件包括相互连接的第一弹片和第二弹片,二者之间形成夹角,且该夹角的开口朝向所述环状本体的中心轴线;其中,
所述第一弹片与所述压爪固定连接;
所述第二弹片在所述压环将晶片固定于基座上时,与所述晶片上表面的边缘区域弹性接触。
3.根据权利要求2所述的压环,其特征在于,所述第一弹片与所述压爪的连接方式包括粘接、焊接或者压接。
4.根据权利要求1所述的压环,其特征在于,所述压爪的底面设置有凹槽,所述弹性部件包括第三弹片和第四弹片,二者之间形成夹角,且该夹角的开口朝向所述凹槽,并且所述第三弹片和所述第四弹片可活动的位于所述凹槽之内;
所述第三弹片与所述第四弹片的夹角处在所述压环将被晶片固定于基座上时,与所述晶片上表面的边缘区域弹性接触。
5.根据权利要求4所述的压环,其特征在于,在所述第三弹片与所述第四弹片之间的夹角处形成有弧形部,所述弧形部在所述压环将晶片固定于基座上时,与所述晶片上表面的边缘区域弹性接触。
6.根据权利要求1所述的压环,其特征在于,所述弹性部件为压缩弹簧,该压缩弹簧的一端与所述压爪固定连接,所述压缩弹簧的另外一端在所述压环将晶片固定于基座上时,与所述晶片上表面的边缘区域弹性接触。
7.根据权利要求1所述的压环,其特征在于,多个所述弹性部件与所述若干个压爪在所述环状本体的周向均匀分布。
8.根据权利要求1、2或6所述的压环,其特征在于,在所述压爪的底面设置有凹槽,
所述弹性部件在产生压缩变形时,朝向所述凹槽运动。
9.一种反应腔室,包括用于承载晶片的基座,所述基座能够上升至工艺位置进行工艺,或者下降至装卸位置进行取放片操作,所述反应腔室还包括压环,所述压环在所述基座位于所述工艺位置时,压住所述晶片上表面的边缘区域;所述压环在所述基座位于所述装卸位置时,与所述晶片分离;其特征在于,所述压环为权利要求1~8任意一项所述的压环。
10.一种半导体加工设备,包括反应腔室,其特征在于,所述反应腔室为权利要求9所述的反应腔室。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造