[发明专利]电感磁芯的制造方法在审

专利信息
申请号: 201610471946.5 申请日: 2016-06-22
公开(公告)号: CN107527725A 公开(公告)日: 2017-12-29
发明(设计)人: 杨宏文 申请(专利权)人: 大余纬格电子科技有限公司;杨宏文
主分类号: H01F27/26 分类号: H01F27/26;H01F41/02
代理公司: 北京天平专利商标代理有限公司11239 代理人: 孙刚
地址: 341500 江*** 国省代码: 江西;36
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电感 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明关于一种电感,尤指一种电感磁芯的制造方法。

背景技术

图1中显示一种习用电感10,其包含一外壳(外磁芯)12、容纳在该外壳12内的一线圈14、及容纳在该线圈14内的一内磁芯16。该外壳12与该内磁芯16一般由铁氧体磁性材料制成,该内磁芯16包含分隔的两块磁芯元件18,该二磁芯元件18之间以混合有玻璃珠的粘着剂19结合,使得该二磁芯元件18之间具有0.15-0.2mm的绝缘间隙,该内磁芯16的绝缘间隙可用来构成该电感10的部份气隙,藉以降低该电感10的涡流损耗以及提高电源转换效率。

以混合玻璃珠的粘着剂将二磁芯元件18对接贴合形成的内磁芯16结构,虽然可选择玻璃珠的尺寸来控制该绝缘间隙的大小,但是对接贴合的作业是由人工操作,其平行对合的稳定度技术不易控管,造成品质不稳定或低落(电感值不稳定),且间隙尺寸无法有效控制。

发明内容

缘此,本发明的目的在提供一种电感磁芯的制造方法,此制造方法可使二磁芯体之间的间隙尺寸得以精确控制,进而可提高电感品质的稳定性与量产良率。

为实现上述目的,本发明公开了一种电感磁芯的制造方法,其特征在于包括:

提供一磁芯体,该磁芯体包含在一第一方向分隔的第一端与第二端,该磁芯体的内部具有一穿槽,该穿槽沿着该第一方向由该第一端穿过该第二端,该磁芯体更包含围绕该穿槽的二侧部以及第一与第二磁芯部,该二侧部在一第二方向分隔且连接在该第一与第二磁芯部之间,该第一与第二磁芯部在一第三方向分隔,该第一方向、该第二方向与该第三方向相互垂直;

将粘着剂注入该磁芯体的穿槽内,使得该第一与第二磁芯部之间形成至少一由粘着剂构成的绝缘间隙;以及

将该磁芯体的至少一侧部去除,而得到一电感磁芯,该电感磁芯包含由该绝缘间隙分隔开的第一与第二磁芯部。

其中,该磁芯体系利用模具将选定的磁性材料压注成型,且将该磁芯体的二侧部都去除。

其中,该电感磁芯用来构成一电感的内磁芯,该内磁芯容纳在一外磁芯内。

其中,该穿槽的两侧具有沿着该第三方向延伸的沟槽,使得该穿槽具有ㄇ型断面。

其中,该穿槽具有呈土型断面。

还公开了一种电感磁芯的制造方法,其特征在于包括:

提供一磁芯体,该磁芯体包含在一第一方向分隔的第一端与第二端,该磁芯体的内部具有一穿槽,该穿槽沿着该第一方向由该第一端穿过该第二端,该磁芯体更包含围绕该穿槽的二侧部以及第一与第二磁芯部,该二侧部在一第二方向分隔且连接在该第一与第二磁芯部之间,该第一与第二磁芯部在一第三方向分隔,该第一方向、该第二方向与该第三方向相互垂直;以及

进行一切断步骤,将该磁芯体沿着该第一方向分成两半,而得到两个电感磁芯,各电感磁芯具有分隔的第一与第二磁芯部,该第一与第二磁芯部之间具有由该穿槽的部分构成的绝缘间隙。

其中,该磁芯体系利用模具将选定的磁性材料压注成型。

其中,该穿槽的两侧具有沿着第三方向延伸的沟槽,且分隔该第一与第二磁芯部的穿槽部分呈L状。

通过上述方法,本发明工序简单,实现便捷,还能使二磁芯体之间的间隙尺寸得以精确控制,进而提高电感品质的稳定性与量产良率。

关于本发明的其它目的、优点及特征,将可由以下较佳实施例的详细说明并参照所附图式来了解。

附图说明

图1显示一习用电感的剖视图。

图2a、2b、2c显示本发明第一实施例的制造方法的步骤的立体图。

图3显示沿图2b的3-3线所取的剖视图。

图4a、4b、4c显示本发明第二实施例的制造方法的步骤的立体图。

图5显示图4c的电感磁芯的剖视图。

图6显示使用图5的电感磁芯所构成的一电感的剖视图。

图7a、7b、7c显示本发明第三实施例的制造方法的步骤的立体图。

图8显示使用图7c的电感磁芯所构成的一电感的剖视图。

图9a、9b、9c显示本发明第四实施例的制造方法的步骤的立体图。

图10显示使用图9c的电感磁芯所构成的一电感的剖视图。

图11显示使用图9c的电感磁芯所构成的另一电感的剖视图。

图12a、12b、12c显示本发明第五实施例的制造方法的步骤的立体图。

图13显示使用图12c的电感磁芯所构成的一电感的剖视图。

具体实施方式

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大余纬格电子科技有限公司;杨宏文,未经大余纬格电子科技有限公司;杨宏文许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610471946.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top