[发明专利]单晶硅碎颗粒埚底料化学石英脱离处理方法在审
申请号: | 201610469497.0 | 申请日: | 2016-06-26 |
公开(公告)号: | CN106006646A | 公开(公告)日: | 2016-10-12 |
发明(设计)人: | 王民磊;郭会杰;刘国军;刘富强;方圆;杨国辰;武肖伟 | 申请(专利权)人: | 河南盛达光伏科技有限公司 |
主分类号: | C01B33/037 | 分类号: | C01B33/037 |
代理公司: | 安阳市智浩专利代理事务所 41116 | 代理人: | 王好勤 |
地址: | 456400 河南*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 单晶硅 颗粒 埚底料 化学 石英 脱离 处理 方法 | ||
【说明书】:
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