[发明专利]一种萝卜高产育苗方法

说明书

技术领域

本发明涉及蔬菜的生产栽培领域，具体的说是一种萝卜高产栽培中的幼苗培育技术。

背景技术

萝卜既是大众冬令蔬菜，又是大众营养保健品，目前在生产栽培中，都是以传统的一次性下种、间苗、定苗的方法，其缺点是，菜苗生长良荞不齐，影响产量。

发明内容

本发明为解决萝卜的生产栽培中，一次性下种、间苗、定苗的方法，菜苗生长良荞不齐，萝卜产量低的问题，发明一种高产育苗方法。

本发明的技术方案是，一种萝卜高产育苗方法，其特殊之处包括整地、选种、选择播种时间、做垄、播种、幼苗管理、移栽工艺过程:

整地:选择非十字花科蔬菜茬口，亩施腐熟的优质农家肥3000公斤并配施适量化肥做

底肥，耕透，耙细，耪平，使土壤上虚下实;

选种:选用颗粒饱满的优质品种萝卜种子;

选择播种时间:选择立秋后15天左右为播种时间;

做垄:播前做高垄，垄宽35厘米，高20厘米，沟宽10厘米;

播种:把顶垄做平，在垄顶上按行距15厘米开播种沟，沟深2厘米，在沟中浇足水分，将种子撒播于沟内，然后覆土，覆土要均匀，不能露籽。

幼苗管理:当幼苗出现2片真叶时进行间苗，幼苗3-4片真叶时定苗，保持苗距10-15

厘米;

移栽:采用双株栽植，带土移栽，行距40厘米、株距20厘米。

技术效果：本发明的技术效果是，采用上述技术方案，可以实现一种萝卜高产育苗方，菜苗生长大小规格整齐。

具体实施方式

下面结合实施例，对本发明作进一步说明。

该发明的实施过程如下:

整地:选择非十字花科蔬菜茬口，亩施腐熟的优质农家肥3000公斤并配施适量化肥做

底肥，耕透，耙细，耪平，使土壤上虚下实;

选种:选用颗粒饱满的优质品种萝卜种子;

选择播种时间:选择立秋后15天左右为播种时间;

做垄:播前做高垄，垄宽35厘米，高20厘米，沟宽10厘米;

播种:把顶垄做平，在垄顶上按行距15厘米开播种沟，沟深2厘米，在沟中浇足水分，将种子撒播于沟内，然后覆土，覆土要均匀，不能露籽。

幼苗管理:当幼苗出现2片真叶时进行间苗，幼苗3-4片真叶时定苗，保持苗距10-15

厘米;

移栽:采用双株栽植，带土移栽，行距40厘米、株距20厘米。