[发明专利]一种金纳米列阵制作方法

权利要求书

1.一种金纳米列阵制作方法，包括如下步骤：

定位模板的设计，通过设计模板，确定微区的尺寸和数量，每个微区必须是独立区域；

2）根据步骤1）中，设计好的模板数量和尺寸，利用激光直写机制作出模板掩模，再选择玻璃片作为基板材料，把清洗好的玻璃片通过高真空电阻蒸发沉积的方法在其表面沉积一层厚度250～ 300 nm的铬层；通过光刻方法把设计好的图形制作到玻璃基板上，并编辑号编号；

3）将步骤2）中，制作好的定位模板放入，浓硫酸和双氧水配成的洗液中，浓硫酸和双氧水的配比为3∶1，加热到80℃，浸泡60 分钟；

4）用超纯水反复冲洗定位模板，去除浓硫酸和双氧水，再将定位模板放入氨水、双氧水和水配成的溶液，溶液的配比为1∶1∶5，使用超声波清洗机，清洗60 分钟，继续使用超纯水反复冲洗，去除氨水、双氧水和水，放入蒸馏水里保存；

5）将经过步骤3），步骤4）处理过的定位模板静置在水平台上，在模板表面滴上适量的聚苯乙烯纳米球水溶胶，通过聚苯乙烯纳米球的自组装得到单层规则排列的纳米球结构阵列；

6）在步骤5）中得到的形成有纳米球结构阵列的定位模板表面，沉积一层纯度99.99%以上金膜，利用聚苯乙烯纳米球做牺牲层，将沉积了金膜的定位模板放入高纯度的二氯甲烷里，使用超声波震荡器，震荡2分钟以上，去掉聚苯乙烯纳米球和覆盖在聚苯乙烯纳米球表面的金，留下成六角形分布的金纳米列阵结构，最终得到金纳米列阵。