[发明专利]等离子体增强磁控溅射系统及方法在审
申请号: | 201610458183.0 | 申请日: | 2016-06-22 |
公开(公告)号: | CN105862005A | 公开(公告)日: | 2016-08-17 |
发明(设计)人: | 石永敬;孙建春;原金海;周安若;吴英 | 申请(专利权)人: | 重庆科技学院 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/46;C23C14/50;C23C14/56 |
代理公司: | 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 | 代理人: | 滑春生 |
地址: | 401331 重*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体 增强 磁控溅射 系统 方法 | ||
【说明书】:
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