[发明专利]电子设备及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201610452847.2 申请日: 2016-06-21
公开(公告)号: CN106611813B 公开(公告)日: 2020-04-14
发明(设计)人: 卢承模;金亮坤;郑求烈;李宝美 申请(专利权)人: 爱思开海力士有限公司
主分类号: H01L43/02 分类号: H01L43/02;H01L43/12
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人: 王建国;许伟群
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 电子设备 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种包括半导体存储器的电子设备,

其中,半导体存储器包括磁性隧道结MTJ结构,MTJ结构包括:自由层,具有可改变的磁化方向;钉扎层,具有钉扎的磁化方向;以及隧道阻挡层,夹在自由层与钉扎层之间,

其中,自由层包括CoFeAlB合金,

其中,Al在CoFeAlB合金中的含量小于10%。

2.根据权利要求1所述的电子设备,其中,Al在CoFeAlB合金中的含量为5%或者更大。

3.根据权利要求1所述的电子设备,其中,半导体存储器还包括底层,底层设置在MTJ结构之下,并且用于增加位于底层之上的层的垂直磁性晶体各向异性。

4.根据权利要求3所述的电子设备,其中,底层包括AlN。

5.根据权利要求1所述的电子设备,其中,半导体存储器还包括磁校正层,磁校正层减少由钉扎层产生的杂散磁场的影响。

6.根据权利要求5所述的电子设备,其中,磁校正层设置在MTJ结构之上。

7.根据权利要求6所述的电子设备,其中,半导体存储器还包括间隔件层,间隔件层夹在MTJ结构与磁校正层之间,并且包括贵金属。

8.根据权利要求1所述的电子设备,其中,半导体存储器还包括一个或多个层,一个或多个层设置在MTJ结构之上或之下,并且具有与MTJ结构的侧壁对齐的侧壁。

9.根据权利要求3所述的电子设备,其中,底层的侧壁不与MTJ结构的侧壁对齐。

10.根据权利要求9所述的电子设备,其中,底层的上表面的宽度比MTJ结构的下表面的宽度大。

11.根据权利要求1所述的电子设备,还包括微处理器,微处理器包括:

控制单元,被配置成从微处理器的外部接收包括命令的信号,并且执行命令的提取、解码、或者控制微处理器的信号的输入或输出;

操作单元,被配置成基于控制单元对命令解码的结果来执行运算;以及

存储单元,被配置成存储用于执行运算的数据、与执行运算的结果相对应的数据、或者用于执行运算的数据的地址,

其中,半导体存储器是微处理器中的存储单元的部件。

12.根据权利要求1所述的电子设备,还包括处理器,处理器包括:

核心单元,被配置成基于从处理器的外部输入的命令,通过使用数据来执行与命令相对应的操作;

高速缓冲存储单元,被配置成存储用于执行运算的数据、与执行运算的结果相对应的数据、或者用于执行运算的数据的地址;以及

总线接口,连接在核心单元与高速缓冲存储单元之间,并且被配置成在核心单元与高速缓冲存储单元之间传送数据,

其中,半导体存储器是处理器中的高速缓冲存储单元的部件。

13.根据权利要求1所述的电子设备,还包括处理系统,处理系统包括:

处理器,被配置成将通过处理器接收的命令解码,并且基于对命令解码的结果而控制对于信息的操作;

辅助存储器件,被配置成存储用于将命令和信息解码的程序;

主存储器件,被配置成调用和存储来自辅助存储器件的程序和信息,使得处理器在执行程序时能够使用程序和信息而执行操作;以及

接口器件,被配置成在处理器、辅助存储器件和主存储器件中的至少一个与外部之间执行通信,

其中,半导体存储器是处理系统中辅助存储器件或者主存储器件的部件。

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