[发明专利]一种柔性透明的薄膜型电阻开关及制备方法

权利要求书

1.一种柔性透明的薄膜型电阻开关的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）制备一层厚度均匀的固化PDMS薄膜，将PDMS主剂与PDMS硬化剂按体积比10：1比例混合均匀，放置于抽真空腔室中，利用抽真空的方式去除混合液中的气泡；用酒精清洗玻璃基底并用氮气吹干，在玻璃基片上滴入配置完成的PDMS混合液，利用匀胶机制备均匀的PDMS薄膜，厚度在100-800µm之间，然后在90℃下烘烤40分钟；得到厚度均匀的固化PDMS薄膜；

（2）将固化后的PDMS薄膜反贴于一片洁净的硬性基底上，实现PDMS薄膜的转移；

（3）在PDMS薄膜上制备一层ITO薄膜作为下电极；

（4）将作为电极引线的区域进行遮挡，然后利用自组装的方式，在ITO薄膜上平铺一层聚苯乙烯小球，并自然晾干；

（5）利用电子束蒸镀的方式，在ITO薄膜上制备ITO纳米线网络薄膜；

（6）将制备完成的样品放入快速退火炉中300℃氮气氛围下退火3-5分钟；

（7）在ITO纳米线网络薄膜上涂覆条状Ag导电胶，作为Ag电极；

（8）将整个器件从玻璃基底上取下，得到柔性透明的薄膜型电阻开关。

2.根据权利要求1所述的一种柔性透明的薄膜型电阻开关的制备方法，其特征在于，步骤（3）中利用磁控溅射的方式，在低于100℃条件下制备一层300nm厚的ITO薄膜作为下电极。

3.根据权利要求1所述的一种柔性透明的薄膜型电阻开关的制备方法，其特征在于，步骤（4）中聚苯乙烯小球的直径为670nm；步骤（5）中利用电子束蒸镀的方式，按0.1nm/s的速率在280℃下，沉积20分钟，制备得到ITO纳米线网络薄膜。

4.权利要求1至3中任一项所述的制备方法所制备的柔性透明的薄膜型电阻开关，其特征在于，该柔性透明的薄膜型电阻开关为ITO-ITO纳米线-Ag三明治结构，包括柔性透明衬底、设置于柔性透明衬底上的ITO薄膜，ITO薄膜上设有一层ITO纳米线网络，ITO纳米线网络上设有Ag电极，Ag电极为上电极，ITO薄膜上未设置ITO纳米线网络的区域为下电极引线区域，整个柔性透明的薄膜型电阻开关在可见光波段的透过率为70%以上；柔性透明衬底为PDMS薄膜。