[发明专利]暴露高能晶面纳米片自组装的三维网络结构α‑Fe2O3的制备方法有效
| 申请号： | 201610373078.7 | 申请日： | 2016-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN106044863B | 公开（公告）日： | 2017-10-20 |
| 发明（设计）人： | 杨合情;马勇;袁煜昆;石倩;张芳娟;裴翠锦 | 申请（专利权）人： | 陕西师范大学 |
| 主分类号： | C01G49/06 | 分类号： | C01G49/06;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 西安永生专利代理有限责任公司61201 | 代理人： | 高雪霞 |
| 地址： | 710062 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 暴露 高能 纳米 组装 三维 网络 结构 fe sub 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种暴露晶面纳米片自组装的三维网络结构α-Fe2O3制备方法，其特征在于：将Fe(NO3)3·9H2O、聚乙烯吡咯烷酮、去离子水按质量比为1:0.2～1:3～7混合均匀，将所得混合液铺展到清洗干净的硅片表面，在空气气氛中350～700℃保温5～15分钟，自然冷却至常温，得到暴露晶面纳米片自组装的三维网络结构α-Fe2O3。
2.根据权利要求1所述的暴露晶面纳米片自组装的三维网络结构α-Fe2O3的制备方法，其特征在于：所述Fe(NO3)3·9H2O、聚乙烯吡咯烷酮、去离子水的质量比为1:0.5:5。
3.根据权利要求1或2所述的暴露晶面纳米片自组装的三维网络结构α-Fe2O3的制备方法，其特征在于：在空气气氛中650℃保温10分钟。
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