[发明专利]足底压力检测机构及机械外骨骼装置

权利要求书

1.一种足底压力检测机构,其特征在于，包括：

支撑层；

压力传感器，所述压力传感器安装在支撑层上；

以及用于设置在人体足底的覆盖层，所述覆盖层包括用于对人体脚趾部分施加的压力进行扩散的脚趾区域、用于对人体足弓部分施加的压力进行扩散的足弓区域以及用于对人体足跟部分施加的压力进行扩散的足跟区域，所述覆盖层覆盖在压力传感器的检测部的上方，且覆盖层与支撑层之间具有间隙，所述支撑层上设置至少三个压力传感器，所述脚趾区域、足弓区域和足跟区域中每个区域分别都对应设有至少一个用于检测其区域内压力的压力传感器。

2.如权利要求1所述的足底压力检测机构，其特征在于，所述覆盖层面向压力传感器的一面具有凸起的接触垫，所述接触垫覆盖在压力传感器的检测部上。

3.如权利要求1所述的足底压力检测机构，其特征在于，所述覆盖层与支撑层之间的间距为0.3-0.7mm。

4.如权利要求1所述的足底压力检测机构，其特征在于，所述脚趾区域包括与人体大脚趾对应的大脚趾区域，所述大脚趾区域对应设有至少一个用于检测该区域内压力的压力传感器。

5.如权利要求4所述的足底压力检测机构，其特征在于，所述足弓区域包括与人体足弓外侧对应的足弓外侧区域和与人体足弓内侧对应的足弓内侧区域，所述足弓外侧区域和足弓内侧区域分别都对应设有至少一个用于检测其区域内压力的压力传感器。

6.如权利要求5所述的足底压力检测机构，其特征在于，所述压力传感器为四个，分别与大脚趾区域、足弓外侧区域、足弓内侧区域和足跟区域一一对应。

7.如权利要求6所述的足底压力检测机构，其特征在于，所述支撑层上在与大脚趾区域、足弓外侧区域、足弓内侧区域和足跟区域对应的部分分别设置有凹陷腔，所述压力传感器容置在凹陷腔内。

8.如权利要求7所述的足底压力检测机构，其特征在于，所述支撑层具有凹陷设置的线槽，所述线槽从足弓区域的侧面引出。

9.如权利要求1所述的足底压力检测机构，其特征在于，所述压力传感器为薄膜式的压敏传感器元件。

10.一种机械外骨骼装置，其特征在于，包括控制系统、执行机构和如权利要求1-9任一项所述的足底压力检测机构，所述控制系统根据足底压力检测机构采集的人体足底压力信号判断人体动作，并控制执行机构执行相应动作。