[发明专利]一种平面光波导结构及其耦合结构和耦合方法有效
申请号: | 201610326883.4 | 申请日: | 2016-05-17 |
公开(公告)号: | CN105759374B | 公开(公告)日: | 2018-03-02 |
发明(设计)人: | 陈奔;梁雪瑞;朱虎;胡百泉;张玓;刘成刚;周日凯;付永安;孙莉萍;马卫东;余向红 | 申请(专利权)人: | 武汉电信器件有限公司 |
主分类号: | G02B6/42 | 分类号: | G02B6/42 |
代理公司: | 深圳市爱迪森知识产权代理事务所(普通合伙)44341 | 代理人: | 何婷 |
地址: | 430074 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 平面 波导 结构 及其 耦合 方法 | ||
1.一种基于平面光波导的耦合结构,其特征在于,所述耦合结构包括单模有源器件和平面光波导,具体的:
所述平面光波导包括用于传递光信号的二氧化硅波导,其中,所述二氧化硅波导由耦合段和传导段构成;
所述耦合段为正梯体结构或者倒梯体结构,其中,所述耦合段与所述单模有源器件相耦合的面为梯顶,所述耦合段与所述传导段连接面为梯底;
所述单模有源器件与所述平面光波导之间预设有耦合间隔空隙;
所述单模有源器件具体为中心波长1310nm,远场发射角X方向25°,Y方向40°的高斯型单模半导体激光器,所述耦合段的梯顶面宽度W1=2.6μm、梯顶面高度H1=4.4μm;梯底面宽度W2=3.3μm,梯底面高度H2=4.4μm;梯体长度L=800μm。
2.根据权利要求1所述的耦合结构,其特征在于,所述耦合间隔空隙d的取值为5μm-50μm,并且所述耦合间隔空隙中填充有用于折射率匹配的匹配胶。
3.根据权利要求2所述的耦合结构,其特征在于,所述单模有源器件的出光面折射率为1.48,则所述匹配胶的折射率为1.48。
4.根据权利要求1、2或3所述的耦合结构,其特征在于,由所述单模有源器件和平面光波导构成的耦合结构具体包括EPON光模块、GPON光模块;数据通信中的高速单信道光模块SFP、SFP+;或者用于40G,100G光传输的并行模块QSFP、QSFP28。
5.一种平面光波导结构,其特征在于,所述平面光波导结构包括用于传递光信号的二氧化硅波导,具体的:
所述二氧化硅波导由耦合段和传导段构成;
所述耦合段为正梯体结构或者倒梯体结构,其中,所述耦合段用于与单模有源器件耦合面为梯顶,所述耦合段与所述传导段连接面为梯底;
所述耦合段的梯顶面宽度W1=2.6μm、梯顶面高度H1=4.4μm;梯底面宽度W2=3.3μm,梯底面高度H2=4.4μm;梯体长度L=800μm。
6.根据权利要求5所述的平面光波导结构,其特征在于,平面光波导上设置有单模有源器件安装底座,所述底座上设置有焊盘和对位标记。
7.一种基于平面光波导的耦合方法,其特征在于,平面光波导中的二氧化硅波导由耦合段和传导段构成,所述方法包括:
生成所述平面光波导,所述耦合段为梯体结构,其中梯顶面宽度W1=2.6μm、梯顶面高度H1=4.4μm;梯底面宽度W2=3.3μm,梯底面高度H2=4.4μm;梯体长度L=800μm;
在所述平面光波导上生成单模有源器件安装底座,所述底座上设置有焊盘和对位标记;
确认选择的单模有源器件具体为中心波长1310nm,远场发射角X方向25°,Y方向40°的高斯型单模半导体激光器;
将所述半导体激光器按照所述平面光波导上的对位标记完成焊接。
8.根据权利要求7所述的耦合方法,其特征在于,所述单模有源器件与所述平面光波导在焊接完成后,两者之间存在预设的耦合间隔空隙,所述方法还包括:
根据激光器的镀膜参数和二氧化硅波导的折射率选择匹配胶,并使用选择的匹配胶填充所述耦合间隔空隙。
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