[发明专利]耐腐蚀高反光的正面镜及其制备方法

权利要求书

1.一种耐腐蚀高反光的正面镜，包括玻璃基体与沉积在玻璃基底上的反光涂层，其特征在于，所述反光涂层的成分组成为(Ti_100-xMe_x)_yB_100-y，其中，0≤x≤25，50≤y≤80，Me包括Mo或Al；

所述反光涂层为非晶结构，涂层致密，密度为4.5g/cm³～5.1g/cm³。

2.根据权利要求1所述的耐腐蚀高反光的正面镜，其特征在于，所述反光涂层的厚度为300～1500nm。

3.根据权利要求2所述的耐腐蚀高反光的正面镜，其特征在于，所述反光涂层的表面为镜面，无针孔或微小颗粒存在，表面粗糙度Ra≤10nm。

4.根据权利要求3所述的耐腐蚀高反光的正面镜，其特征在于，所述反光涂层的电阻率为3×10^-4～5×10^-2Ω.cm。

5.根据权利要求1所述的耐腐蚀高反光的正面镜，其特征在于，所述玻璃基体形状为平面板状或曲面状。

6.一种根据权利要求1～5任一权利要求所述的耐腐蚀高反光的正面镜的制备方法，其特征在于，采用磁控溅射法沉积反光涂层，具体为：

(1)玻璃基体清洗；

(2)连接电源，将靶材与中频脉冲电源和/或射频电源相连；

(3)沉积反光涂层，当腔室真空度小于2×10^-5Pa，冲入Ar气并调节溅射气压为0.2～0.7Pa，调整靶材的功率密度8.5W/cm²～20W/cm²，对样品台进行加热和/或施加脉冲负偏压，开启样品挡板，对玻璃基体主表面进行沉积，得到所述的耐腐蚀高反光的正面镜。

7.根据权利要求6所述的耐腐蚀高反光的正面镜的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，将样品台加热至30～300℃。

8.根据权利要求6所述的耐腐蚀高反光的正面镜的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，施加-10～-30V的脉冲负偏压。