[发明专利]一种碳纳米管导电剂分散方法及电池制备方法

权利要求书

1.一种碳纳米管导电剂分散方法，其特征在于，包括：

配胶液：按质量配比，将聚偏氟乙烯PVDF与N-甲基吡咯烷酮NMP同时放入第一搅拌罐内进行高速分散，得到胶液；

制备导电剂浆料：按质量配比，将碳纳米管CNT、聚乙烯吡咯烷酮PVP和NMP加入到纳米及锆石研磨机中对混料进行研磨，然后转移到第二搅拌罐中进行高速分散，得到导电剂浆料；

制备磷酸铁锂LFP粗浆：按质量配比，将LFP与NMP加入到第三搅拌罐中进行高速分散，得到LFP粗浆；

混料：将所述胶液、所述导电剂浆料加入到所述LFP粗浆中进行高速分散得到混合浆料；

出料：测试混合浆料粘度及细度，当浆料合格时，抽真空出料，得到碳纳米管导电剂；

其中，所述配胶液、所述制备导电剂浆料与所述制备磷酸铁锂LFP粗浆同时进行。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述LFP、所述PVDF、所述CNT的质量配比为：100：2～5：2～5；所述PVDF与所述NMP的质量配比为：2～5：15～25；所述CNT、所述PVP和所述NMP的质量配比为2～5：0.5～1：35～45；所述LFP与所述NMP的质量配比为100：45～55。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一搅拌罐、第二搅拌罐、第三搅拌罐组成的内循环系统是：将第一搅拌罐的出口与第三搅拌罐的入口通过密封管道连接，第二搅拌罐的出口与所述第三搅拌罐的入口通过密封管道连接。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述第三搅拌罐的入口安装 旋转喷液装置，所述胶液及所述导电剂浆料通过控制所述旋转喷液装置的进入速度与旋转速度连续进入所述第三搅拌罐中。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其特征在于，所述第一搅拌罐进行高速分散的方式为：先以15～25Hz的公转频率低速搅拌5-10min后刮料，然后以40～50Hz的公转频率，40-60Hz的自转频率高速搅拌60-120min；

所述纳米及锆石研磨机对混料进行研磨的研磨次数为2～4次、时间为10-20min/次；

所述第二搅拌罐进行高速分散的方式为：先以15～25Hz的公转频率低速搅拌5-10min后刮料，然后以40～50Hz的公转频率，40～60Hz的自转频率高速搅拌60-120min；

所述制备磷酸铁锂LFP粗浆的步骤中所述第三搅拌罐进行高速分散的方式为：先以15～25Hz的公转频率低速搅拌5-10min后刮料，然后以40～50Hz的公转频率，40～60Hz的自转频率高速搅拌120-240min；

所述混料的步骤中所述第三搅拌罐进行高速分散的方式为：以40～50Hz的公转频率，40～60Hz的自转频率高速搅拌60-120min。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述LFP、所述PVDF、所述CNT的质量配比为：100：2：2；所述PVDF与所述NMP的质量配比为：2：18；所述CNT、所述PVP和所述NMP的质量配比为2：0.5：38；所述LFP与所述NMP的质量配比为100：55。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述所述第一搅拌罐进行高速分散的方式为：先以15Hz的公转频率低速搅拌10min后刮料，然后以45Hz的公转频率，50Hz的自转频率高速搅拌90min；

所述纳米及锆石研磨机对混料进行研磨的研磨次数为4次、时间为10min/次；

所述第二搅拌罐进行高速分散的方式为：先以15Hz的公转频率低速搅拌 10min后刮料，然后以40Hz的公转频率，60Hz的自转频率高速搅拌120min；

所述制备磷酸铁锂LFP粗浆的步骤中所述第三搅拌罐进行高速分散的方式为：先以20Hz的公转频率低速搅拌10min后刮料，然后以45Hz的公转频率，50Hz的自转频率高速搅拌180min；

所述混料的步骤中所述第三搅拌罐进行高速分散的方式为：以45Hz的公转频率，60Hz的自转频率高速搅拌90min。

8.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述LFP、所述PVDF、所述CNT的质量配比为：100：2：4；所述PVDF与所述NMP的质量配比为：2：18；所述CNT、所述PVP和所述NMP的质量配比为4：1：36；所述LFP与所述NMP的质量配比为100：55。