[发明专利]一种JLX-1340铝型材挤压模具的制备方法在审

专利信息
申请号: 201610310063.6 申请日: 2016-05-12
公开(公告)号: CN107363111A 公开(公告)日: 2017-11-21
发明(设计)人: 孙启轩 申请(专利权)人: 天津市玉鼎轩模具制造有限公司
主分类号: B21C25/02 分类号: B21C25/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300000 天津市滨海新区大*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 jlx 1340 铝型材 挤压 模具 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种挤压模具,特别涉及一种JLX-1340铝型材挤压模具。

背景技术

目前,在铝型材生产过程中 , 模具是关键。一直以来,模具的问题一直困扰着企业,铝型材生产都是以单孔的形式进行的。而单孔模一般通过14MN以下的小机生产,因此在工厂经常有存在大机吃不饱、稳定性较差的问题,同时,铝型材表面质量较差,小机有干不完的任务与订单,而 14MN以上的大机则因为没有适应的产品与规格可干而闲置,造成资源的浪费,且生产效率低。为此,我们提出一种JLX-1340铝型材挤压模具。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种JLX-1340铝型材挤压模具,整体结构简单,设计合理,有利于型材的出料稳定型,对铝的流速和产品的表面质量起到了优化的作用,大大提高了工作效率,可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的,本发明采取的技术方案为:

一种JLX-1340铝型材挤压模具,包括上模结构、下模结构和焊合室,所述上模结构上设置有第一分流孔、第二分流孔、第三分流孔和第四分流孔,且第一分流孔与第三分流孔关于上模结构中心对称,第二分流孔与第四分流孔关于上模结构中心对称,所述第一分流孔、第二分流孔、第三分流孔和第四分流孔的圆半径均为57mm,每两组分流孔之间均设置有分流桥,所述上模结构顶部中间位置处设有后空刀铣槽以及设置在后空刀铣槽内部的淬火孔。

进一步地,所述第一分流孔、第二分流孔、第三分流孔和第四分流孔底部均设置有焊合室。

进一步地,所述上模结构底部连接有下模结构以及设置在下模结构上的定位孔和装配孔。

进一步地,所述下模结构内部设置有模芯,所述下模结构底部另设置有进料口。

进一步地,所述淬火孔深度为35mm,所述后空刀铣槽周长为287.38,面积为204.92mm2

与现有技术相比,本发明具有如下有益效果:使用该铝型材挤压模具,解决了吃不饱、稳定性较差的问题,同时,整体结构简单,设计合理,有利于型材的出料稳定型,对铝的流速和产品的表面质量起到了优化的作用,大大提高了工作效率。

附图说明

图1为本发明JLX-1340铝型材挤压模具的上模结构示意图。

图2为本发明JLX-1340铝型材挤压模具的侧视图。

图3为本发明JLX-1340铝型材挤压模具的下模结构示意图。

图4为本发明JLX-1340铝型材挤压模具的后空刀铣槽结构示意图。

图中:1、上模结构;2、第一分流孔;3、淬火孔;4、第二分流孔;5、后空刀铣槽;6、第三分流孔;7、分流桥;8、第四分流孔;9、下模结构;10、进料口;11、模芯;12、焊合室;13、定位孔;14、装配孔。

具体实施方式

为使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本发明。

如图1-4所示,一种JLX-1340铝型材挤压模具,包括上模结构1、下模结构9和焊合室12,所述上模结构1上设置有第一分流孔2、第二分流孔4、第三分流孔6和第四分流孔8,且第一分流孔2与第三分流孔6关于上模结构1中心对称,第二分流孔4与第四分流孔8关于上模结构1中心对称,所述第一分流孔2、第二分流孔4、第三分流孔6和第四分流孔8的圆半径均为57mm,每两组分流孔之间均设置有分流桥7,所述上模结构1顶部中间位置处设有后空刀铣槽5以及设置在后空刀铣槽5内部的淬火孔3。

本发明JLX-1340铝型材挤压模具,使用该铝型材挤压模具,解决了吃不饱、稳定性较差的问题,同时,整体结构简单,设计合理,有利于型材的出料稳定型,对铝的流速和产品的表面质量起到了优化的作用,大大提高了工作效率。

其中,所述第一分流孔2、第二分流孔4、第三分流孔6和第四分流孔8底部均设置有焊合室12。

其中,所述上模结构1底部连接有下模结构9以及设置在下模结构9上的定位孔13和装配孔14。

其中,所述下模结构9内部设置有模芯11,所述下模结构9底部另设置有进料口10。

其中,所述淬火孔3深度为35mm,所述后空刀铣槽5周长为287.38,面积为204.92mm2

以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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