[发明专利]GEOSAR方位成像中的电离层时变效应影响判决方法有效

专利信息
申请号: 201610301841.5 申请日: 2016-05-09
公开(公告)号: CN105785336B 公开(公告)日: 2018-02-16
发明(设计)人: 张启雷;计一飞;张永胜;董臻;余安喜;何志华;黄海风;何峰;孙造宇;金光虎 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科学技术大学
主分类号: G01S7/40 分类号: G01S7/40;G01S13/90
代理公司: 国防科技大学专利服务中心43202 代理人: 王文惠
地址: 410073 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: geosar 方位 成像 中的 电离层 效应 影响 判决 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于航天与微波遥感结合的交叉技术领域,特别涉及一种GEOSAR(Geosynchronous Synthetic Aperture Radar,地球同步轨道合成孔径雷达)方位成像中的电离层时变效应的影响判决方法。

背景技术

随着航天技术及微波探测技术的日益发展,星载SAR系统作为空间探测的重要手段,发挥着越来越重要的作用。当前,星载SAR系统的轨道高度、频段范围进一步扩展,功能进一步增强。GEOSAR系统即是将轨道扩展至地球同步轨道时得到的新体制星载SAR系统。相比于传统的低轨星载SAR系统,GEOSAR系统具有观测场景宽、覆盖范围广、时间分辨率高的技术优势,但同时也面临诸多新的技术挑战,譬如电离层效应对其成像性能的影响。

对于传统的低轨星载SAR系统而言,合成孔径时间较短,通常认为期间的电离层近似不变。然而事实上,电离层的形态、结构和介质特性会随时间不断变化,即具有时变效应。GEOSAR的合成孔径时间长达102~103秒,因此电离层的时变效应会降低GEOSAR回波信号的相干性,进而可能导致其方位成像质量的下降。

电离层时变效应对GEOSAR方位成像的影响集中反映在STEC(Slant Total Electron Content,斜距向电子总量)在合成孔径时间内的变化上,目前尚未查到相应的影响判决方法。

发明内容

本发明的目的是:提出一种GEOSAR方位成像中的电离层时变效应的影响判决方法,可以应用于GEOSAR电离层影响分析与校正处理。

本发明的技术方案是:

已知GEOSAR的系统参数包括:载频fc,合成孔径时间Ts,观测场景中任意目标点P在东北天坐标系下的坐标为(x0,y0,z0),该点对应的合成孔径中心时刻为t0,GEOSAR在方位向慢时间tn时刻的东北天坐标系轨道坐标数据为n的取值为任意整数并且|tn-t0|≤Ts/2。电离层的高度为zi

第一步,针对观测场景中任意目标点P,利用空间直线方程,计算得到合成孔径中心时刻t0的GEOSAR波束在电离层上的穿刺点(Ionospheric Penetration Point,IPP)坐标

第二步,针对穿刺点坐标利用在线IRI(International Reference Ionosphere,国际参考电离层)模型获取方位向慢时间tn时刻的电离层垂直向TEC(Total Electron Content,电子总量)值再利用下式得到时变的STEC值:

其中,几何变换因子γ(t0)为:

第三步,对得到的|tn-t0|≤Ts/2进行多项式拟合,得到一阶分量系数k1的值和二阶分量系数k2的值。

第四步,如果下述不等式同时成立,

则对观测场景中任意目标点P的方位向成像时忽略电离层时变效应的影响,其中,c=3×108m/s为真空中光速,K=40.28m3/s2;否则,必须考虑其影响。

采用本发明可取得以下技术效果:

本发明针对GEOSAR方位成像处理,提出了电离层时变效应的影响判决方法,给出了判决门限和判决方法,在GEOSAR电离层影响分析与校正处理中有广泛应用。

附图说明

图1是本发明提供的GEOSAR方位成像中的电离层时变效应影响判决流程图;

图2是GEOSAR与电离层的几何关系示意图;

图3是随时间变化的电离层垂直向TEC数据;

图4是电离层时变效应超过判决门限时的GEOSAR方位成像结果;

图5是电离层时变效应未超过判决门限时的GEOSAR方位成像结果。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明提供的方法进行详细说明。

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