[发明专利]一种TFT基板及其制备方法及液晶显示面板

权利要求书

1.一种TFT基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1，提供一衬底基板，在所述衬底基板上形成线栅偏振器；

S2，在所述线栅偏振器的上方配置一层配向层，所述配向层的配向方向与所述线栅偏振器的栅线相平行；

S3，使用二向色性染料溶液在所述配向层上形成二向色性染料膜层。

2.根据权利要求1所述的TFT基板的制备方法，其特征在于：所述二向色性染料溶液包括二向色性染料、聚合物以及引发剂。

3.根据权利要求2所述的TFT基板的制备方法，其特征在于：所述引发剂为光引发剂时，所述步骤S3包括，将二向色性染料溶液涂覆在配向层上，采用曝光的方式使二向色性染料溶液发生聚合反应以使二向色性染料膜层固化。

4.根据权利要求2所述的TFT基板的制备方法，其特征在于：所述引发剂为热引发剂时，所述步骤S3包括，将二向色性染料溶液涂覆在配向层上，采用高温的方式使二向色性染料溶液发生聚合反应以使二向色性染料膜层固化。

5.根据权利要求1所述的TFT基板的制备方法，其特征在于：所述步骤S3包括，根据所述线栅偏振器的结构将二向色性染料溶液打印在栅线对应的配向层上。

6.根据权利要求1所述的TFT基板的制备方法，其特征在于：所述线栅偏振器采用纳米压印的方式制成。

7.一种TFT基板，包括衬底基板和设于所述衬底基板上方的线栅偏振器，其特征在于：所述线栅偏振器上设有配向层，所述配向层上设有二向色性染料膜层，所述二向色性染料膜层的吸收取向与所述线栅偏振器的栅线相平行。

8.根据权利要求7所述的TFT基板，其特征在于：所述二向色性染料膜层为对应地设于所述线栅偏振器的栅线上方的不连续膜层。

9.根据权利要求7所述的TFT基板，其特征在于：所述二向色性染料膜层为设于所述线栅偏振器上方的连续膜层。

10.根据权利要求7所述的TFT基板，其特征在于：所述线栅偏振器采用纳米线栅偏振器，栅线的宽度为10-300nm，栅线的间距为10-300nm，栅线的深度为50-500nm。

11.一种液晶显示面板，其特征在于：包括依次设置的上偏振元件、上基板、液晶层以及如权利要求7-10所述的TFT基板。

12.根据权利要求11所述的液晶显示面板，所述液晶显示面板为ADS模式显示面板或IPS模式显示面板，其特征在于：所述上基板的下方靠近所述液晶层的一侧设有半波片。