[发明专利]一种自清洁光学树脂镜片及其制备方法

权利要求书

1.一种自清洁光学树脂镜片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S01，清洁：将树脂基片浸入到无水乙醇中浸泡2h～4h，取出后放置在真空干燥箱内，在35℃～42℃的温度条件下干燥处理1h～3h，得树脂基片I；

步骤S02，微波水热反应：将ZnO纳米粉体或者Sm₂O₃纳米粉体与非离子型表面活性剂按照15～20：1～1.5的质量百分比投入到碱性溶液中，将体系移入聚四氟乙烯反应釜中，在130℃～150℃的温度条件下进行微波水热反应30min～60min，反应结束后对反应体系进行自然降温至室温，得到纳米ZnO溶液或者纳米Sm₂O₃溶液；

步骤S03，成膜：将树脂基片I以2cm/min～4cm/min的速度缓慢投入到步骤S02得到的纳米ZnO溶液或者纳米Sm₂O₃溶液中，在真空环境下，静置浸渍12h～24h，使树脂基片表面生长出一层致密的疏水膜，然后将树脂基片取出后放置于真空干燥箱内，在40℃～50℃的温度条件下干燥处理4h～8h，得树脂基片II；

步骤S04，固化：将树脂基片II在105℃～125℃的温度条件下进行热固化处理8min～13min，得树脂基片III；

步骤S05，溅射：将树脂基片III放置于真空中压射频溅射装置中，进行中压射频溅射处理10min～15min，在树脂基片的表面镀一层SiO₂膜，得树脂基片IV；

步骤S06，二次固化：将树脂基片IV在120℃～140℃的温度条件下进行热固化处理5min～10min，即得自清洁光学树脂镜片。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤S02中，所述ZnO纳米粉体或者Sm₂O₃纳米粉体的粒度为50nm～120nm。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤S02中，所述非离子型表面活性剂为聚环氧乙烷，硬脂酸甘油三酯，溴化四苯基磷鎓，氢氧化四丁基磷鎓，月桂醇聚氧乙烯醚，失水山梨醇脂肪酸酯，癸基葡萄糖苷，乙二醇脂肪酸酯中的任一种或两种以上的混合物。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤S02中，所述碱性溶液为氢氧化钠、二乙烯三胺、氨水、乙二胺、脂肪仲胺、N,N-二甲基苯胺中的任一种。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤S02中，所述碱性溶液的质量是投入的ZnO纳米粉体或者Sm₂O₃纳米粉体与非离子型表面活性剂总质量的30倍～60倍。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤S02中，所述微波水热反应具体为：反应压力为0.2MPa～1.8MPa，反应功率为300W～1500W。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤S03中，所述疏水膜的厚度为250nm～500nm。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤S03中，所述疏水膜的硬度为：7H～10H。

9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤S05中，所述中压射频溅射处理具体为：靶材采用疏水型纳米二氧化硅，在氩气保护下，在温度为60℃～78℃，真空度为2×10^-4Pa～4×10^-4Pa，溅射电压为150V～300V，衬底温度为120℃～150℃的条件下进行中压射频溅射处理，制得厚度为60nm～120nm的SiO₂薄膜。

10.一种自清洁光学树脂镜片，其特征在于，采用权利要求1～9中任一项所述的制备方法制备而成。