[发明专利]光学防伪特征检测方法及装置在审

专利信息
申请号: 201610291269.9 申请日: 2016-05-05
公开(公告)号: CN107346579A 公开(公告)日: 2017-11-14
发明(设计)人: 鲍东山;陈新;万成凯;唐辉 申请(专利权)人: 北京新岸线数字图像技术有限公司
主分类号: G07D7/20 分类号: G07D7/20;G07D7/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100084 北京市海淀区中*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 光学 防伪 特征 检测 方法 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及光电技术领域,具体涉及接触式图像传感器(CIS,Contact Image Sensor)、光学防伪特征检测方法及装置。

背景技术

光学防伪特征是指当光线从不同角度照射,或从不同角度观察被观察物时,被观察物呈现出不同的图像特征。采用光学防伪特征技术制作的印制品所看到的图像具有的动态变化的效果,无法用高清晰度扫描仪、彩色复印机及其他设备进行复制,加之其设计和生产技术极具专业性,制作工艺复杂,投资巨大,难以仿制,因此广泛的用于证件、重要票据、商标的高端防伪。

目前所用的具有光学防伪特征的技术比较多,其中比较通用的有全息图像、隐形图案等。

全息图像是通过激光制版将影像制作到塑料薄膜上,产生五光十色的衍射效果,使图片具有二维、三维空间感。在普通光线下,图片中隐藏的图像、信息会重现,而当光线从某一特定角度照射时,图片上又会出现新的图像。目前多国证件、票据、商标等都在采用全息图像技术进行防伪。

隐形图案主要是基于凹印技术,根据凹印油墨线纹的方向不同,图案折光效果也不同。当倾斜观察时,因墨纹方向不同产生反射光线的强弱不同,看到的图像会观察到隐藏的图像信息。而当垂直观察时,反射光强弱与墨纹排列方向无关,图像中的隐形信息会被隐藏起来。

现有的装置都采用基于互补金属氧化物半导体元件(CMOS,Complementary Metal-Oxide Semiconductor)或电荷耦合元件(CCD,Charge Coupled Device)摄像头对证件、票据的光学防伪特征(如全息图像等)区域进行拍照,得到相关区域的图像,之后采用图像处理算法来鉴别该防伪点的真伪。这些装置具有以下的主要特点:

第一,在每个光学防伪特征区域可能出现的位置安装一套图像采集装置。一套装置要根据所拍摄到的光学防伪特征区域的位置,设计光源和摄像头的位置,使得摄像头可以同时获得证件、票据的正面图像(从大致垂直角度拍摄的 图像)和侧面图像(从侧边以一定的倾斜角度拍摄的图像)。

第二,由于不同国家的证件、票据,不同的币种,光学防伪特征区域在钞票上所处的位置各不相同,所以一套设备往往只能适用于某一国证件、票据的一种或几种币种的光学防伪特征区域检测。

第三,由于采用CMOS或CCD的摄像头焦距都比较大,要拍摄一定范围的视野,都需要一定的拍摄距离,因此整个拍摄装置所需的体积往往都比较大。

由上述的特点也决定了采用CMOS或CCD摄像头检测光学防伪特征的设备会存在如下的问题:

在CMOS或CCD摄像头在拍摄时,证件、票据在走钞腔内运动与理论运动情况往往有一定的差异,这也决定了在摄像头进行图像拍摄时,光学防伪特征区域所处的位置与理论位置有一定的出入,从而也使得在成像时,正面图像、侧面图像、光学防伪特征区域与光源的相对位置与设计有一定偏差。这也最终影响到变色油墨的识别效果。

而且,由于不同的币种,光学防伪特征区域所在钞票的位置各不相同,而CMOS或CCD装置必须要在光学防伪特征区域位置上进行安装,所以对于光学防伪特征区域不在同一位置上的证件、票据,只能通过多台不同的设备进行识别。而当发行新版本的证件、票据时,如果光学防伪特征区域的位置发生变化,则必须对原有的设备进行硬件重新设计更新。

另外,CMOS或CCD摄像头所需体积较大,而对于内部设计十分紧凑的点、验、清分设备来说,无疑大大地增加了设备的设计要求,也增加了整个设备的整体体积。

发明内容

有鉴于此,本发明提供CIS、光学防伪特征检测方法及装置,还提供采用本发明光学防伪特征检测装置的检验设备,同时采集被检测物的正面和侧面图像,并通过比较所采集的图像,以此来达到检测光学防伪特征的目的。

本发明提供的一种光学防伪特征检测方法,该方法包括:

分别从两个不同角度照射防伪图案所在区域;

以预定角度接收所述防伪图案所在区域的反射光,获取两个不同的角度照射时所得到的图像;

比较所述两个不同图像,以确定所述防伪图案是否为具有光学防伪特征 的图案。

所述预定角度与所述两个不同的照射角度均不相等。

所述所述两个不同的照射角度的差值大于或等于30度。

本发明提供的一种接触式图像传感器CIS,所述CIS包括:透镜、光电转换芯片和交替点亮的第一光源和第二光源;

所述第一光源以第一入射角α1照射被检测物上的预定区域;

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