[发明专利]一种磁控溅射用的靶背板及磁控溅射装置

权利要求书

1.一种磁控溅射用的靶背板，所述靶背板内设置有冷却液通道，且所述靶背板的背面设置有多个磁体，其特征在于，所述靶背板的冷却液通道内设置有导磁片，所述导磁片与多个所述磁体所产生的磁场的磁场强度最强区对应；

所述靶背板为长条状背板，一部分所述磁体沿所述长条状背板的长度方向间隔排列成至少三行，余下的另一部分所述磁体沿所述长条状背板的宽度方向排列成两列，且两列所述磁体分别位于所述长条状背板的相对的两端；

多个所述磁体所产生的磁场的磁场强度最强区位于所述长条状背板的两端，所述长条状背板的两端的冷却液通道内各设有一个所述导磁片。

2.根据权利要求1所述磁控溅射用的靶背板，其特征在于，

从所述长条状背板的两端至所述长条状背板的中部，多个所述磁体所产生的磁场的磁场强度逐渐减小；

所述导磁片为楔形导磁片，且所述楔形导磁片的厚度从所述长条状背板的一端至所述长条状背板的中部逐渐减小。

3.根据权利要求2所述的磁控溅射用的靶背板，其特征在于，所述楔形导磁片的底面与所述靶背板的背面平行，所述楔形导磁片的斜面相对所述楔形导磁片的底面倾斜。

4.根据权利要求3所述的磁控溅射用的靶背板，其特征在于，在所述楔形导磁片的斜面上设置有至少三个条形凸起，每个所述条形凸起与一行所述磁体正对。

5.根据权利要求4所述的磁控溅射用的靶背板，其特征在于，所述导磁片的厚度为2mm-6mm，所述条形凸起的厚度不小于2mm。

6.根据权利要求1所述的磁控溅射用的靶背板，其特征在于，所述导磁片为金属片。

7.根据权利要求6所述的磁控溅射用的靶背板，其特征在于，所述导磁片与所述靶背板为一体成型结构。

8.一种磁控溅射装置，其特征在于，包括真空镀膜腔室，以及设于所述真空镀膜腔室内、如权利要求1-7任一所述的磁控溅射用的靶背板。