[发明专利]用于湿式化学分析仪的具有清洁剂的标准溶液

权利要求书

1.一种用于湿式化学分析仪的校准溶液，所述校准溶液包括：

校准剂；

清洁剂；以及

其中，清洁剂被选择为使得湿式化学分析仪同时被清洁和校准。

2.根据权利要求1所述的溶液，其中，清洁剂至少部分地基于用在湿式化学分析仪中的试剂来选择。

3.根据权利要求1所述的溶液，其中，清洁剂包括强碱。

4.根据权利要求3所述的溶液，其中，清洁剂包括氢氧化钠。

5.根据权利要求4所述的溶液，其中，清洁剂包括按重量计算为至少0.01％的氢氧化钠。

6.一种用于同时校准和清洁分析仪的方法，所述方法包括以下步骤：

将校准溶液提供到分析仪，其中，校准溶液包括清洁剂；

在分析仪上进行校准操作；以及

其中，校准溶液被提供为使得其接触分析仪的还被构造为接收试剂流体的表面。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，清洁剂被至少部分地基于试剂流体来选择。

8.根据权利要求2所述的方法，其中，强碱包括氢氧化钠。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，校准溶液中的氢氧化钠的浓度按重量计算包括大致0.02％。

10.根据权利要求8所述的方法，其中，校准溶液中的氢氧化钠的浓度按重量计算小于0.02％。

11.根据权利要求6所述的方法，还包括：

重复将校准溶液提供到分析仪并且进行校准操作的步骤。

12.根据权利要求6所述的方法，还包括：

在校准操作之后检测校准溶液的过程变量的指示。

13.根据权利要求12所述的方法，还包括：

至少部分地基于检测到的过程变量指示来重复将校准溶液提供到分析仪并且进行校准操作的步骤。

14.根据权利要求12所述的方法，其中，过程变量包括校准溶液的pH。

15.一种湿式化学分析仪，包括：

反应室，所述反应室被构造为容纳反应混合物并且构造为利用反应混合物中的试剂来进行反应；

检测器，所述检测器被构造为检测指示反应混合物的过程变量；

试剂壳体，所述试剂壳体被构造为容纳校准流体；以及

其中，校准流体被构造为在校准周期中同时清洁和校准湿式化学分析仪。

16.根据权利要求15所述的分析仪，其中，校准流体包括清洁剂。

17.根据权利要求16所述的分析仪，其中，清洁剂被选择为与反应混合物的成分反应。

18.根据权利要求16所述的分析仪，其中，清洁剂包括强碱。

19.根据权利要求16所述的分析仪，其中，清洁剂包括强酸。

20.根据权利要求15所述的分析仪，其中，校准周期包括经由分析仪提供校准流体，从而该校准流体流体地接触被构造为接收反应混合物的表面。