[发明专利]一种稀土永磁真空烧结热处理方法及真空热处理设备

权利要求书

1.一种真空热处理设备，包括：真空炉门、真空炉体、真空隔热室、真空隔热门、带隔热层的后盖、加热器、真空气体冷却系统和真空机组；所述的真空炉门上设置有观察窗；真空炉体为卧式双层水冷壁结构，前端设置有前法兰，后端焊接有封头；真空炉门与真空炉体的前法兰相接触；所述的带隔热层的后盖、真空隔热室和真空隔热门设置在所述的真空炉体和真空炉门构成的密闭真空容器内；真空隔热室为卧式箱形结构，前端与真空隔热门接触，后端连接有带隔热层的后盖；真空隔热室设置有框架和保温层；保温层设置在框架的内侧；在真空隔热室的两个侧面上分别设置有2个以上的隔热挡气阀，在框架的两个侧面上分别设置有冷却气体通道，所述的隔热挡气阀封闭在冷却气体通道内；所述的加热器设置在真空隔热室的内壁上；所述的真空气体冷却系统设置有换热器和真空风机；换热器的出气口与真空风机的吸气口相连，换热器的进气口与真空炉体一侧面上的接管相连，接管穿过真空炉体与真空隔热室同一侧的冷却气体通道相通；真空风机的排气口与真空炉体另一侧面上的接管相连，接管穿过真空炉体与真空隔热室另一侧的冷却气体通道相通；所述的真空机组通过抽真空接口与真空炉体相连；真空气体冷却系统在换热器的进气口和真空炉体一侧面上的接管之间还设置有另一个真空风机；

所述的加热器由前加热器、后加热器、上加热器、下加热器和2个侧加热器组成，前加热器和后加热器都为环形结构，分别设置在真空隔热室的前端和后端，上加热器、下加热器和2个侧加热器分别设置在真空隔热室的上侧、下侧和两个侧面；所述的加热器材质为钼或石墨。

2.根据权利要求1所述的一种真空热处理设备，其特征在于：所述的真空炉门上还设置有用于真空炉门开关的铰链和用于真空炉门锁紧的齿圈，在所述的真空炉门和真空炉体的前法兰之间还设置有密封圈；真空隔热门与真空炉门相连，与真空炉门一起开关。

3.根据权利要求1所述的一种真空热处理设备，其特征在于：所述的隔热挡气阀在真空隔热室的每个侧面上分别设置有2个。

4.根据权利要求1所述的一种真空热处理设备，其特征在于：所述的真空炉体上还设置有测温热电偶和加热器电源引入电极，所述的测温热电偶有3个以上；所述的加热器电源引入电极内通有冷却水。

5.根据权利要求1所述的一种真空热处理设备，其特征在于：所述的真空隔热室为卧式对称的八边形箱体，上、下和两个侧面的边长大于4个斜边的边长；真空隔热室的框架外侧焊接有筋板，筋板的高度小于200mm。

6.根据权利要求1所述的一种真空热处理设备，其特征在于：所述的真空隔热室的框架的内侧设置有保温层，保温层的内侧设置有钼片，通过钼杆将框架、保温层和钼片连接在一起；所述的保温层的材质为陶瓷纤维和碳纤维一种以上。

7.根据权利要求1所述的一种真空热处理设备，其特征在于：所述的真空隔热室的框架的内侧设置有保温层；所述的保温层的材质为硬质碳毡。

8.根据权利要求1所述的一种真空热处理设备，其特征在于：所述的真空隔热室的下面内侧设置有炉床，炉床的下面连接有立柱；炉床的上部为均温区，均温区位于由上加热器、下加热器和2个侧加热器构成的空间内；被烧结或热处理的工件放置在炉床上，置于均温区内；所述的均温区的宽度在400-1200mm范围内，高度在400-1200mm范围内，长度在800-3500mm范围内；所述的均温区的最高温度在500-1400℃范围内。

9.一种稀土永磁真空烧结热处理方法，采用如权利要求1所述的真空热处理设备，包括以下步骤：

加热工序：打开稀土永磁真空热处理设备的真空炉门，将稀土永磁坯料送到真空隔热室的炉床上，关闭真空炉门后抽真空至真空度5×10^-1Pa以上，继续抽真空并开始加热，加热时间1-30小时，最高加热温度在450-1100℃范围内，然后停止加热；

冷却工序：充入氩气，当气体压力超过4000Pa时，分别打开真空隔热室两侧的多个隔热挡气阀，交替启动两个冷却风机，然后交替或同时开闭两侧的多个隔热挡气阀。