[发明专利]磁记录装置及读入方法有效

专利信息
申请号: 201610274707.0 申请日: 2016-04-28
公开(公告)号: CN106960674B 公开(公告)日: 2019-03-22
发明(设计)人: 手操弘典 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: G11B5/55 分类号: G11B5/55
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 万利军;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 记录 装置 读入 方法
【说明书】:

本发明提供能进行高密度记录的磁记录装置及读入方法。实施方式涉及的磁记录装置具备:盘,其具有轨道组,该轨道组包括伺服区域和第一轨道及与第一轨道部分重叠的第二轨道;光照射元件,其照射将盘加热的光;头,其具备:在盘的通过光照射元件照射的光加热了的范围写进数据的写入头和从盘的轨道组内的轨道读入数据的读取头;以及控制器,其在轨道组的第一区域写进检测偏移量的第一数据,参照伺服区域的伺服信息来从第一区域读入第一数据,基于所读入的第一数据的第一信号的振幅来检测读取头的偏移量,基于偏移量来控制读取头的位置。

本申请要求以日本专利申请2016-2648号(申请日:2016年1月8日)为在先申请的优先权。本申请通过参照该在先申请而包括该在先申请的全部内容。

技术领域

本发明的实施方式涉及磁记录装置及读入方法。

背景技术

近年来,开发了用于实现磁记录装置(例如HDD)的高记录容量化的各种技术。作为此类技术之一,有被称为瓦记录方式(Shingled write Magnetic Recording(SMR)(瓦写磁记录)或Shingled Write Recording(SWR)(瓦写记录))的记录技术。瓦记录方式的磁记录装置在向磁盘写入数据时与相邻的轨道的一部分重叠地在下一记录轨道进行记录。通过采用该瓦记录方式,而能提高轨道密度(Track Per Inch:TPI,每英寸轨道数)。

此外,存在被称为热辅助磁记录(Thermally Assisted Magnetic Recording:TAMR,热辅助磁记录)方式的记录技术。热辅助磁记录方式的磁记录装置(以下称为热辅助磁记录装置)具备将照射光(例如近场光)向磁盘的记录层照射的光照射元件和用于使光(例如激光)在光照射元件传播的波导。根据该磁记录装置,在数据的写进时,从光照射元件的前端将照射光向记录介质的记录层照射,将记录层局部加热,从而能使被加热的记录层部分的顽磁力充分下降,能实现高记录密度化。

在该热辅助磁记录装置中,根据照射光的照射范围,而会产生写入头所形成的记录宽度的变动。

发明内容

本发明的实施方式提供能实现高密度记录的磁记录装置及读入方法。

本实施方式涉及的磁记录装置,具备:盘,其具有轨道组,该轨道组包括伺服区域和第一轨道及与所述第一轨道部分重叠的第二轨道;光照射元件,其照射对所述盘进行加热的光;头,其具备:在所述盘的以所述光照射元件照射的所述光所加热的范围写进数据的写入头和从所述盘的所述轨道组内的轨道读入数据的读取头;以及控制器,其在所述轨道组的第一区域写进检测偏移量的第一数据,参照所述伺服区域的伺服信息而从所述第一区域读入所述第一数据,基于所述读入的第一数据的第一信号的振幅来检测所述读取头的偏移量,基于所述偏移量来控制所述读取头的位置。

附图说明

图1是表示实施方式涉及的磁记录装置的构成的框图。

图2是放大表示实施方式涉及的磁记录装置的头及磁盘的侧视图。

图3是实施方式涉及的头的剖视图。

图4(a)是表示在通常时的近场光的照射范围写进的带域(band area,带区)的一例的图,图4(b)是表示在近场光的照射范围变化后写进的带域的一例的图。

图5是概要地表示磁盘的带域内的预定用户区域的一例的图。

图6是包括图5所示的用户区域的检测区域的轨道的放大图。

图7是表示检测数据的写进的定时的一例的图。

图8A(a)是表示在通常时的近场光的照射范围写进的检测区域DAm的一例的图,图8A(b)是表示在近场光的照射范围变化后写进的检测区域DAm的一例的图。

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