[发明专利]彩膜基板的制作方法和液晶面板的制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，特别是涉及一种彩膜基板的制作方法及液晶面板的制作方法。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，TFT-LCD)包含彩色滤光片基板(ColorFilterSubstrate，CFSubstrate，)和薄膜晶体管阵列基板(ThinFilmTransistorSubstrate，TFTSubstrate)，基板相对内侧存在透明电极。两片基板之间夹一层液晶分子(LiquidCrystal，LC)。液晶显示器是通过电场对液晶分子取向的控制，改变光的偏振状态，并藉由偏光板实现光路的穿透与阻挡，实现显示的目的。

彩膜基板为液晶显示器彩色化的关键零组件，现有技术中，彩膜基板的制造方法是分别依次涂布和曝光黑色矩阵材料、红、绿、蓝光阻材料及制作间隔柱。该方法制作步骤较多，制作工艺复杂，生产效率较低。

随着现代显示技术的发展，如何能够使得液晶面板的制造过程中的工序尽量减少，以节约制造成本，为业界所研究的方向。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种液晶面板的制作方法，通过简化彩膜基板的制造过程，减少液晶面板的制造工序，降低制造成本。

为了实现上述目的，本发明实施方式提供如下技术方案：

一方面，本发明提供一种彩膜基板的制作方法，包括：

在第一基板上分别涂布及曝光三层光阻材料，所述三层光阻材料的颜色分别为红、绿、蓝，在所述涂布及曝光步骤过程中形成红色阻块、绿色阻块及蓝色阻块，同时，通过所述三层光阻材料之中的两种不同颜色的所述光阻材料的混合形成遮光层，通过所述三层光阻材料之中的至少两种不同颜色的所述光阻材料的堆叠形成隔垫层。

进一步，“在第一基板上分别涂布及曝光三层光阻材料”的步骤包括：涂布红色光阻材料并曝光显影，形成所述红色阻块、红色隔垫块及位于遮光区域的第一色阻层；涂布绿色光阻材料并曝光显影，形成所述绿色阻块；及涂布蓝色光阻材料并曝光显影，形成蓝色阻块、蓝色隔垫块及位于所述遮光区域的第二色阻层；其中：所述第一色阻层的红色光阻材料和所述第二色阻层的蓝色光阻材料在所述遮光区域内混合形成遮光层；所述蓝色隔垫块与所述红色隔垫块堆叠形成所述隔垫层。

进一步，所述红色阻块、所述绿色组块及所述蓝色阻块均采用全透式光罩曝光形成。

进一步，所述第一色阻层与所述第二色阻层均采用半透式光罩曝光形成，所述第一色阻层与所述第二色阻层混合后形成的所述遮光层与所述红色阻块的高度相同。

进一步，所述隔垫层包括位置交错排列的主隔垫层与辅隔垫层，所述主隔垫层通过对所述红色光阻材料进行全透式光罩曝光形成红色主隔垫块，所述主隔垫层通过对所述蓝色光阻材料进行全透式光罩曝光形成蓝色主隔垫块，所述蓝色主隔垫块与所述红色主隔垫块堆叠后形成所述主隔垫层，所述辅隔垫层通过对所述红色光阻材料进行半透式光罩曝光形成红色辅隔垫块，所述辅隔垫层通过对所述蓝色光阻材料进行半透式光罩曝光形成蓝色辅隔垫块，所述蓝色辅隔垫块与所述红色辅隔垫块堆叠后形成所述辅隔垫层。

进一步，所述主隔垫层高度为3.2um～3.7um。

进一步，所述半透式光罩的透过率为20％～50％。

进一步，所述遮光层通过涂布曝光的过程中对红色光阻材料和蓝色光阻材料混合或者红色光阻材料和绿色光阻材料混合形成，所述遮光层呈黑色。

进一步，所述隔垫层包括位置交错排列的主隔垫层与辅隔垫层，所述主隔垫层由采用全透式光罩曝光的两种不同颜色的所述光阻材料堆叠而成，所述辅隔垫层由采用半透式光罩曝光形成的至少两种不同颜色的所述光阻材料堆叠而成。

另一方面，本发明还提供一种液晶面板的制作方法，包括上述任意一项所述的彩膜基板的制作方法；在所述彩膜基板上滴入液晶；及将第二基板贴合至所述彩膜基板，在所述第二基板的边缘区域与所述第一基板的边缘区域之间使用框胶粘合。

本发明提供的液晶面板的彩膜基板使用两层光阻材料混合形成遮光层、多层光阻材料混合形成隔垫层的方法制成。该液晶面板的制作方法工序较少，操作简单，获得良好预期效果的同时节约制造成本。

附图说明

为了更清楚地说明本发明的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以如这些附图获得其他的附图。