[发明专利]光扩散粉、光扩散粉的制备方法、量子点光刻胶及量子点彩膜

说明书

本发明属于显示技术领域，尤其涉及光扩散粉其制备方法、量子点光刻胶及量子点彩膜。本发明的光扩散粉制备方法为：烷氧基硅烷在酸性条件或碱性条件下进行共水解缩合反应，得到光扩散粉。本发明还公开了由所述光扩散粉制成的量子点光刻胶及量子点彩膜。所述光扩散粉具有有机链段结构和无机结构，与量子点光刻胶体系中的各种组分相容性较好，具有较好的分散效果，增加了光刻胶的均匀性。由该量子点光刻胶制成的量子点彩膜膜质均匀，光利用率高。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及光扩散粉、光扩散粉的制备方法、量子点光刻胶及量子点彩膜。

背景技术

传统液晶显示装置的背光源为白色背光，为了实现彩色显示，一般在彩膜基板侧设置彩色滤光层。然而，由于在光传输过程中会损失近70％的背光亮度，因此，彩色滤光层成为背光亮度损耗最严重的器件之一。近年来量子点发光二极管由于良好的发光特性和较高的色域，在显示领域受到很大的青睐。量子点发光二极管具有与聚合物发光二极管类似的器件结构，但是其发光层是由量子点彩膜构成。

量子点彩膜技术是用量子点代替传统颜料分散在光刻胶中制备彩色转化膜，但是量子点容易发生团聚，甚至发生淬灭，成本高，发光效率较低。另外因为彩膜厚度不高，导致蓝光照射进入时大量蓝光浪费从而出射，所以激发红光和绿光的效率降低，出光效率和亮度都会降低。图1为现有普通量子点光刻胶制成的量子点彩膜的结构示意图，图1中，1表示量子点。蓝色入射光部分因照射不到量子点而通过光刻胶出射，不仅浪费了蓝色，造成了混色，也使红色或绿色的量子点彩膜发光效率降低。为了改善量子点彩膜的该种缺陷，研究人员通常将光扩散粉加入到光刻胶中。包含有光扩散粉和量子点的光刻胶经过成膜，制备得到量子点彩膜。该种量子点彩膜将入射的蓝色光进行多次折射，达到多次有效利用的效果，由此提高量子点彩膜的发光和转换效率。

目前，光扩散粉包括无机光扩散粉(如：二氧化硅)和有机光扩散粉。其中，二氧化硅作为光扩散粉，在光刻胶中的分散性较差，影响量子点彩膜的平整性和pattern化，降低了光转换效率，有机光扩散粉与体系折射率相似，光扩散效果不好。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种光扩散粉、光扩散粉的制备方法、量子点光刻胶及量子点彩膜，所述光扩散粉与量子点光刻胶体系的相容性好，分散效果佳，提高了光利用效率。

本发明公开了一种光扩散粉的制备方法，包括以下步骤：

烷氧基硅烷在酸性条件或碱性条件下进行共水解缩合反应，得到光扩散粉；所述烷氧基硅烷具有式I结构：

其中R1为C1～C50烷基；R’为烷基或取代烷基。

优选的，所述水解缩合反应具体为：

将烷氧基硅烷溶于有机溶剂中，加入酸溶液或碱溶液加热反应，减压加热固化后得到固化物；

将所述固化物依次洗涤，得到光扩散粉。

优选的，还包括：所述R’基团具有不饱和键，在所述水解缩合反应前，对烷基硅氧烷的R’基团进行修饰，所述修饰的方法为：将烷氧基硅烷与带有不饱和键的有机物反应，所述R’基团的不饱和键之间通过断裂、再连接，形成聚合物链。

优选的，所述烷氧基硅烷为甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷，利用甲基丙烯酸酯与所述甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷进行反应。

优选的，所述烷氧基硅烷为正辛基三乙氧基硅烷、正十八烷基三乙氧基硅烷、(3-环氧丙氧基丙基)三乙氧基硅烷、苄基三乙氧基硅烷或甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷。

优选的，所述R’如以下结构所示：