[发明专利]针对糖尿病患者脚型个性化减压鞋垫的制作方法及系统有效

专利信息
申请号: 201610266038.2 申请日: 2016-04-26
公开(公告)号: CN105997318B 公开(公告)日: 2018-03-02
发明(设计)人: 周晋;徐波;陈武勇;李筠 申请(专利权)人: 四川大学
主分类号: A61F5/01 分类号: A61F5/01;A61B5/103
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 针对 糖尿病患者 脚型 个性化 减压 鞋垫 制作方法 系统
【权利要求书】:

1.一种针对糖尿病患者脚型个性化减压鞋垫的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:

步骤一:获取患者静止时足部的三维模型,在所述三维模型中提取足形轮廓,以确定鞋垫轮廓平面图;

步骤二:采集患者运动过程中的足底压力数据,根据所述足底压力数据确定所述鞋垫轮廓平面图中的压强峰值位置及高压区域;

步骤三:对所述高压区域进行减压处理;

其中,所述确定压强峰值位置的方法包括:

在道路上间隔设置多个压力采集模块;

当患者以设定行进速度经过所述道路时,各个所述压力采集模块以设定的频率采集与足底各部位接触时的足底压力数据;

将采集的每一帧足底压力数据合成动态脚型图像;

对所述动态脚型图像进行分区,确定各个分区中的压力发生时间和结束时间;

根据各个所述分区的压力发生时间和结束时间确定具有最大接触面积的足底压力图像的时间范围;

在所述时间范围内选取一帧接触面积最大图像;

根据所述接触面积最大图像确定压强峰值位置;

所述高压区域为以所述压强峰值位置为圆心、设定半径的圆形区域。

2.根据权利要求1所述的针对糖尿病患者脚型个性化减压鞋垫的制作方法,其特征在于,所述足形轮廓包括足底轮廓和脚印轮廓;其中,

所述在所述三维模型中提取足形轮廓,具体包括:

从所述三维模型的俯视图中提取最大轮廓,所述最大轮廓为足底轮廓;

根据脚印受力区域确定坐标原点图;

提取所述坐标原点图与所述三维模型的交接曲线,所述交接曲线为脚印轮廓。

3.根据权利要求1所述的针对糖尿病患者脚型个性化减压鞋垫的制作方法,其特征在于,所述获取患者静止时足部的三维模型的方法:

使用至少两组扫描单元以相互垂直的角度、设定扫描速度采集患者静止时的足部横截面图像;

将采集的所有的足部横截面图像拟合形成三维模型。

4.根据权利要求1所述的针对糖尿病患者脚型个性化减压鞋垫的制作方法,其特征在于,在所述时间范围内选取一帧接触面积最大图像之后,还包括:

对所述接触面积最大的图像进行修正,以获得有效压力接触图像。

5.一种使用根据权利要求1-4中任一项所述的针对糖尿病患者脚型个性化减压鞋垫的制作方法的制作系统,其特征在于,所述制作系统包括:

图像采集模块,用于获取患者静止时足部的三维模型;

提取模块,用于在所述三维模型中提取足形轮廓,以确定鞋垫轮廓平面图;

压力采集模块,间隔设置道路上,用于当患者以设定行进速度经过所述道路时,采集患者运动过程中的足底压力数据;

确定模块,用于根据所述足底压力数据确定所述鞋垫轮廓平面图中的压强峰值位置及高压区域;

处理模块,用于对所述高压区域进行减压处理;

其中,所述确定模块包括:

图像合成单元,用于将采集的每一帧足底压力数据合成动态脚型图像;

图像分区单元,用于对所述动态脚型图像进行分区,以确定各个分区中的压力发生时间和结束时间;

图像选取单元,用于在所述时间范围内选取一帧接触面积最大图像;

确定单元,用于根据所述接触面积最大图像确定压强峰值位置,以及以所述压强峰值位置为圆心、设定半径的圆形区域为高压区域。

6.根据权利要求5所述的制作系统,其特征在于,所述足形轮廓包括足底轮廓和脚印轮廓;

所述提取模块包括:

第一提取单元,用于从所述三维模型的俯视图中提取最大轮廓,所述最大轮廓为足底轮廓;

第二提取单元,用于根据脚印受力区域确定坐标原点图,提取所述坐标原点图与所述三维模型的交接曲线,所述交接曲线为脚印轮廓。

7.根据权利要求5所述的制作系统,其特征在于,所述图像采集模块包括:

至少两组扫描单元,所述至少两组扫描单元以相互垂直的角度、设定扫描速度采集患者静止时的足部横截面图像;

拟合单元,用于将采集的所有的足部横截面图像拟合形成三维模型。

8.根据权利要求5所述的制作系统,其特征在于,所述确定模块包括:

修正单元,用于在所述时间范围内选取一帧接触面积最大图像之后对所述接触面积最大的图像进行修正,以获得有效压力接触图像。

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