[发明专利]一种基于BOA技术的显示面板及制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种基于BOA技术的显示 面板及制作方法。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(thinfilmtransistor-liquidcrystaldisplay， TFT-LCD)因具有轻、薄、小等特点，同时功耗低、无辐射、制造成本 相对较低，在目前平板显示行业应用较为广泛。液晶面板作为TFT-LCD 主要部件，按结构组成可分为薄膜晶体管阵列基板和彩色滤光片基板， 传统TFT-LCD面板中，在彩色滤光片与像素电极进行对位时，因对位 不佳容易漏光，开口率降低，面板亮度降低等影响，同时在曲面显示屏 上应用受到限制。

为了解决由于对位不准确造成的漏光及面板亮度降低等问题，已有 彩色滤光片整合于阵列基板(ColorFilteronArray，COA)结合黑矩阵 整合于阵列基板(BlackmatrixonArray，BOA)技术，将彩色滤波片部 分整合到阵列基板上，即将彩色光阻层及黑矩阵制备在阵列基板，克服 了因对位不佳造成的不利因素，但这种COA结合BOA的技术在制作流 程上仍然没有减少，导致成本方面并未得到改善。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种基于BOA技术的显示面板 及制作方法，能够减少制作流程，降低生产成本。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种基 于BOA技术的显示面板的制作方法，包括：

提供一阵列基板，其中阵列基板包括显示区域及非显示区域；

在阵列基板上形成彩色光阻层和黑矩阵层，并且在形成彩色光阻层 和/或黑矩阵层的过程中，同时形成间隔物。

其中，在形成彩色光阻层和/或黑矩阵层的过程中同时形成间隔物包 括：

在阵列基板上形成彩色光阻层，对彩色光阻层进行曝光以形成对应 非显示区域的第一间隔物；

在彩色光阻层上形成黑矩阵层；

对黑矩阵层进行曝光以形成对应非显示区域的第二间隔物。

其中，第一间隔物和第二间隔物位置不同且高度也不同。

其中，在阵列基板上形成彩色光阻层，对彩色光阻层进行曝光以形 成对应非显示区域的第一间隔物包括：

在阵列基板上形成红色光阻、绿色光阻及蓝色光阻；

对红色光阻对应的红色光阻层进行一次曝光以形成红色光阻及凸 出红色光阻的第一间隔物；

或者对绿色光阻对应的绿色光阻层进行一次曝光以形成绿色光阻 及凸出绿色光阻的第一间隔物；

或者对蓝色光阻对应的蓝色光阻层进行一次曝光以形成蓝色光阻 及凸出蓝色光阻的第一间隔物；

其中，第一间隔物形成于红色光阻、绿色光阻或蓝色光阻对应于阵 列基板的非显示区域上。

其中，在阵列基板上形成彩色光阻层，对彩色光阻层进行曝光以形 成对应非显示区域的第一间隔物包括：

在阵列基板上形成红色光阻；

在红色光阻上涂布绿色光阻层；

使用一次光罩对绿色光阻层进行曝光以形成绿色光阻及第一间隔 物，其中第一间隔物位于红色光阻对应阵列基板的非显示区域上，光罩 对应绿色光阻的第一区域的透光性大于光罩对应第一间隔物的第二区 域的透光性，光罩除去第一区域及第二区域的剩余区域为不透膜；

在阵列基板上形成蓝色光阻。

其中，对黑矩阵层进行曝光以形成对应非显示区域的第二间隔物包 括：

利用一次光罩对黑矩阵层进行曝光；

对黑矩阵层进行曝光后，黑矩阵层对应非显示区域上形成第二间隔 物，其中，光罩对应第二间隔物的第一区域的透光性大于光罩除去第一 区域的第二区域的透光性，第二区域对应的黑矩阵层留下剩余的黑矩阵 层。

其中，在形成彩色光阻层和/或黑矩阵层的过程中同时形成间隔物包 括：

在阵列基板上形成彩色光阻层，对彩色光阻层进行曝光以形成凹陷 区域及彩色光阻，其中，凹陷区域位于彩色光阻区域内对应于阵列基板 的非显示区域上；

在彩色光阻层上形成黑矩阵层，黑矩阵层覆盖彩色光阻层及凹陷区 域；

对黑矩阵层进行曝光，使得在凹陷区域上形成第一间隔物，在彩色 光阻层对应阵列基板非显示区域上形成第二间隔物。