[发明专利]利用纳米颗粒改善表面浸润性的薄膜制备方法

权利要求书

1.一种薄膜制备方法，包括以下步骤：

1)配制纳米颗粒的前驱体溶液或分散液；

2)将纳米颗粒的前驱体溶液或分散液沉积在待沉积表面上，形成一层不连续的纳米颗粒， 获得修饰后的待沉积表面；

3)将待沉积的溶液沉积在修饰后的待沉积表面，得到全覆盖且与待沉积表面接触良好的 薄膜。

2.如权利要求1所述的薄膜制备方法，其特征在于，步骤1)采用在待沉积表面浸润性好且 对待沉积表面无伤害的溶剂配制纳米颗粒的前驱体溶液或分散液。

3.如权利要求2所述的薄膜制备方法，其特征在于，步骤1)所用溶剂选自下列溶剂中的一 种或多种：水、二硫化碳、甲醇、乙醇、丁醇、乙二醇、异丙醇、乙氧基乙醇、甲氧基乙 醇、氯苯、二氯苯、N,N-二甲基甲酰胺、γ-丁内酯和二甲基亚砜，视待沉积表面的性质而 定。

4.如权利要求1所述的薄膜制备方法，其特征在于，所述待沉积表面是无机材料表面或有机 材料表面。

5.如权利要求4所述的薄膜制备方法，其特征在于，所述待沉积表面选自下列材料中的一种 或多种：硅片、氮化硅、玻璃、单基板、聚对苯二甲酸乙二酯、金属板、氧化铟锡、氧化 氟锡、聚3,4-乙撑二氧噻吩∶聚苯乙烯磺酸盐、PCBM、ICBA、C₆₀、聚乙烯醇、聚乙烯 吡咯烷酮、poly-TPD、spiro-OMeTAD、聚乙烯咔唑、石墨烯、石墨烯氧化物、氧化锌、 氧化镍、氧化钼、氧化钨、氧化钛、二氧化硅、二氧化锡、二氧化锗、银膜、银纳米线、 银网格、金膜、金纳米线、金网格、铜膜、铜纳米线、铜网格、镍膜、镍纳米线和镍网格。

6.如权利要求1所述的薄膜制备方法，其特征在于，所述纳米颗粒选自：ITO纳米颗粒、FTO 纳米颗粒、银纳米颗粒、金纳米颗粒、铜纳米颗粒、碳量子点、氧化钛纳米颗粒、二氧化 硅纳米颗粒、氧化锌纳米颗粒、氧化镍纳米颗粒、氧化钼纳米颗粒、氧化钨纳米颗粒、氧 化铝纳米颗粒、二氧化锆纳米颗粒、碘化铅纳米颗粒、氯化铅纳米颗粒和溴化铅纳米颗粒 中的一种或多种。

7.如权利要求1所述的薄膜制备方法，其特征在于，步骤1)配制的纳米颗粒的前驱体溶液 或分散液的浓度小于等于1mol/L。

8.如权利要求1所述的薄膜制备方法，其特征在于，步骤2)采用旋涂、滴涂、刮涂、喷涂、 和/或印刷的方法沉积纳米颗粒。

9.如权利要求1所述的薄膜制备方法，其特征在于，步骤2)在待沉积表面上形成一层间距 小于等于100μm的不连续纳米颗粒。

10.如权利要求1所述的薄膜制备方法，其特征在于，步骤3)中待沉积溶液的沉积方法选 自旋涂、滴涂、刮涂、喷涂和印刷中的一种或多种。