[发明专利]一种β敷贴器表面吸收剂量率校准装置及方法

权利要求书

1.一种β敷贴器表面吸收剂量率校准装置，其特征在于：

所述校准装置包括底座、β敷贴器定位架和β外推电离室；所述β敷贴器定位架和β外推电离室固定在所述底座上；

β敷贴器安装在所述β敷贴器定位架上，然后对准所述β外推电离室，利用β外推电离室测量并校准敷贴器表面剂量率；

所述β敷贴器定位架包括轴向旋钮、径向旋钮、紧固螺帽、轴向旋进轴、轴承和源托，所述轴向旋钮、紧固螺帽、轴承和源托自远离β外推电离室的位置到靠近所述β外推电离室的位置顺序套装在所述轴向旋进轴上；

所述径向旋钮可调节源托与β外推电离室的入射窗之间的径向距离，该径向距离可由径向旋钮下方的径向旋进刻度尺读出；

所述轴承可带动源托旋转，旋转过程中源托与β外推电离室的入射窗之间的距离不变；轴承上带有角度刻度标记，以记录源托的旋转角度。

2.如权利要求1所述的β敷贴器表面吸收剂量率校准装置，其特征在于：

所述β外推电离室通过电离室支撑柱固定在底座上，所述电离室支撑柱能够支撑β外推电离室和调节β外推电离室高度。

3.如权利要求2所述的β敷贴器表面吸收剂量率校准装置，其特征在于：

所述轴向旋钮带动轴向旋进轴，调节源托与β外推电离室的入射窗之间的轴向距离。

4.如权利要求3所述的β敷贴器表面吸收剂量率校准装置，其特征在于：

当源托与β外推电离室的入射窗之间的轴向距离调节好后，锁死所述紧固螺帽，可记忆该轴向距离。

5.如权利要求2所述的β敷贴器表面吸收剂量率校准装置，其特征在于：

所述源托可从β敷贴器定位架中拆卸，并用于固定待校准的β敷贴器，所述源托带有3个互成120°的紧固螺钉；源托凹槽的直径和深度根据待校准的β敷贴器加工。

6.一种使用如权利要求1-5任意一项所述校准装置的β敷贴器表面吸收剂量率校准方法，其特征在于所述方法包括如下步骤：

1)根据待校准的β敷贴器尺寸参数，选择β外推电离室；

2)使用电离室支撑柱将β外推电离室安装在底座上，并保证源托的中轴线和β外推电离室收集极的中轴线在同一水平面上；

3)调节径向旋钮，使径向旋进刻度尺上下两个零刻度对齐；

4)调节轴向旋钮，从而调节源托前表面与β外推电离室之间的距离；

5)锁死紧固螺帽，记忆此时源托的轴向位置；

6)调节轴向旋钮，使得有足够的空间取下源托；

7)将β敷贴器安装在源托上，再将源托安装在轴承上；

8)调节轴向旋钮至紧固螺帽记忆的位置；

9)利用β外推电离室测量敷贴器表面剂量率。

7.一种使用如权利要求6所述方法的β敷贴器表面均匀性测量方法，其特征在于所述测量方法在步骤9)后进一步包括如下步骤：

10)调节径向旋钮，使径向旋进刻度尺的上下刻度相差7mm，测量以点A为圆心的小源的表面剂量率；

11)旋转轴承，分别旋转90°、180°和270°，并测量记录以点B、C、D为圆心的小源的表面剂量率。