[发明专利]一种OLED显示面板及其制备方法在审
申请号: | 201610224615.1 | 申请日: | 2016-04-12 |
公开(公告)号: | CN107293564A | 公开(公告)日: | 2017-10-24 |
发明(设计)人: | 牟鑫;李艳虎 | 申请(专利权)人: | 上海和辉光电有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 上海申新律师事务所31272 | 代理人: | 俞涤炯 |
地址: | 201506 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 oled 显示 面板 及其 制备 方法 | ||
1.一种OLED显示面板,其特征在于,包括:
衬底,设置有像素区和非像素区;
若干第一电极,设置在所述像素区中;
若干发光层,分别对应设置在所述第一电极上,且任一所述发光层用以发射单一波长的光,若干所述发光层发射至少包括三种不同波长的光;
若干第二电极,分别对应设置于所述发光层之上;以及
增透膜,设置于所述第二电极之上,且其在衬底上的正投影与所述像素区和所述非像素区重叠;
其中,所述增透膜包括透明导电层,且所述透明导电层将相邻的所述第二电极予以电连接。
2.如权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,还包括多个设置在所述衬底和所述第一电极间且连接所述第一电极的驱动组件。
3.如权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述增透膜还包括叠置于所述透明导电层之上的若干增透层。
4.如权利要求3所述的OLED显示面板,其特征在于,所述增透层的整体厚度为100-3000埃米。
5.如权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,若干所述发光层包括相互独立的红色发光层、绿色发光层和蓝色发光层。
6.如权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述第二电极的厚度为50-300埃米。
7.如权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述第二电极为低功函数的金属。
8.如权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述透明导电层的厚度为150-3000埃米。
9.如权利要求8所述的OLED显示面板,其特征在于,所述透明导电层为无机材料或导电高分子材料。
10.如权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述第一电极为反射阳极。
11.一种OLED显示面板的制备方法,其特征在于,包括:
提供一衬底,所述衬底具有像素区和非像素区;
于所述衬底的像素区中形成若干第一电极;
于所述若干第一电极之上分别对应形成若干发光层,且任一所述 发光层用以发射单一波长的光,若干所述发光层发射至少包括三种不同波长的光;
于每个所述发光层之上均对应形成第二电极;以及
于所述第二电极之上形成增透膜,且其在衬底上的正投影与所述像素区和非像素区重叠;
其中,制备所述增透膜包括透明导电层,且所述透明导电层将相邻的所述第二电极予以电连接。
12.如权利要求11所述的OLED显示面板的制备方法,其特征在于,所述于所述衬底的像素区中形成若干第一电极的步骤包括:
于所述衬底的像素区中形成多个驱动组件;
于所述多个驱动组件之上形成若干与所述驱动组件连接的第一电极。
13.如权利要求11所述的OLED显示面板的制备方法,其特征在于,制备所述增透膜还包括于所述透明导电层之上形成若干增透层。
14.如权利要求13所述的OLED显示面板的制备方法,其特征在于,制备所述若干增透层的整体厚度为100-3000埃米。
15.如权利要求11所述的OLED显示面板的制备方法,其特征在于,制备所述若干发光层包括红色发光层、绿色发光层和蓝色发光 层。
16.如权利要求11所述的OLED显示面板的制备方法,其特征在于,制备所述第二电极的厚度为50-300埃米。
17.如权利要求11所述的OLED显示面板的制备方法,其特征在于,采用低功函数的金属制备所述第二电极。
18.如权利要求11所述的OLED显示面板的制备方法,其特征在于,制备所述透明导电层的厚度为150-3000埃米。
19.如权利要求11所述的OLED显示面板的制备方法,其特征在于,采用无机材料或导电高分子材料制备所述透明导电层。
20.如权利要求11所述的OLED显示面板的制备方法,其特征在于,采用普通金属掩膜制备所述透明导电层。
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