[发明专利]一种显示装置在审
| 申请号: | 201610222445.3 | 申请日: | 2016-04-11 | 
| 公开(公告)号: | CN105700212A | 公开(公告)日: | 2016-06-22 | 
| 发明(设计)人: | 王倩;董学;陈小川;卢鹏程;牛小辰;高健;杨明 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 | 
| 主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;G02F1/1335;H01L27/32 | 
| 代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 | 
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 显示装置 | ||
1.一种显示装置,其特征在于,包括:
相对设置的第一衬底基板和第二衬底基板;
从所述第一衬底基板的内侧到所述第二衬底基板内侧,依次设置 的多个颜色控制发光单元、金属线栅偏振片、多个透过率调节像素单 元。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述透过率调 节像素单元包括:液晶层、以及用于为所述液晶层提供驱动电场的像 素电极和公共电极。
3.根据权利要求2所述的显示装置,其特征在于,所述像素电极 和所述公共电极位于所述液晶层的同一侧;
所述金属线栅偏振片接地,或者,所述显示装置还包括透明导电 层,所述透明导电层接地、且位于所述颜色控制发光单元与所述透过 率调节像素单元之间。
4.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述颜色控制 发光单元包括:发光功能层、以及位于所述发光功能层两侧的阳极和 阴极。
5.根据权利要求4所述的显示装置,其特征在于,所述阴极相对 于所述阳极远离所述第一衬底基板;
所述透过率调节像素单元包括:液晶层、以及位于所述液晶层一 侧的像素电极;所述像素电极与所述阴极用于为所述液晶层提供驱动 电场。
6.根据权利要求1)5任一项所述的显示装置,其特征在于,所述 显示装置还包括:光线校正部,所述光线校正部位于所述颜色控制发 光单元与所述透过率调节像素单元之间,用于将入射光校正为垂直于 所述第二衬底基板的出射光。
7.根据权利要求6所述的显示装置,其特征在于,所述光线校正 部包括:衍射光栅,所述衍射光栅具有光栅面和槽面,所述槽面包含 多个子槽面,且各个所述子槽面倾斜设置,其中所述光栅面为光入射 面,所述槽面为光出射面;
第一介质层,所述第一介质层位于所述衍射光栅的槽面上,从所 述衍射光栅出射的光线经所述第一介质层的光出射面折射,成为垂直 于所述第二衬底基板的出射光。
8.根据权利要求7所述的显示装置,其特征在于,所述光线校正 部还包括:第二介质层,所述第二介质层位于所述第一介质层的光出 射面上,且所述第二介质层的光出射面平行于所述第二衬底基板。
9.根据权利要求7所述的显示装置,其特征在于,各个所述子槽 面平行设置,且所述第一介质层的光出射面为一个斜面或包括多个平 行的折射子面。
10.根据权利要求9所述的显示装置,其特征在于,所述子槽面 与所述第一介质层的光出射面的倾斜方向相反。
11.根据权利要求6所述的显示装置,其特征在于,所述光线校 正部包括:衍射光栅,所述衍射光栅具有光栅面和槽面,所述槽面包 含多个子槽面,且所述子槽面平行于所述第二衬底基板,其中所述光 栅面为光入射面,所述槽面为光出射面。
12.根据权利要求11所述的显示装置,其特征在于,所述光线校 正部还包括:第一介质层,所述衍射光栅位于所述第一介质层上,且 所述衍射光栅的光栅面与所述第一介质层贴合。
13.根据权利要求7或11所述的显示装置,其特征在于,所述衍 射光栅包括周期性排列的刻槽部,每个周期内的刻槽部包括:依序排 列的刻槽组,各个所述刻槽组包含的刻槽部的个数相同,且同一刻槽 组内刻槽部的形状相同,不同刻槽组内刻槽部的形状不同。
14.一种显示装置,其特征在于,包括:
多个颜色控制发光单元;
位于所述颜色控制发光单元出光方向上的光线校正部,所述光线 校正部用于将入射光校正为竖直光线;
以及设置在所述光线校正部出光方向上的多个透过率调节像素单 元。
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