[发明专利]阴极单元

说明书

本发明公开了一种阴极单元，该阴极单元(220)用于成膜装置(200)，包括：多个靶(C1、C2、C3)，设置在成膜空间(50)内，并具有背板(204)、第一母材(205)、第二母材(206)和旋转轴(207)，所述背板具有第一主面(204a)、第二主面(204b)、第一侧面(211)及第二侧面(212)，多个旋转轴(207)以相互平行地排列的方式配置在同一平面内；多个控制部(E1、E2、E3)，使所述旋转轴(207)旋转，并对所述靶(C1、C2、C3)施加用于溅射的电压；多个磁场生成部(H1、H2、H3)，设置在靠近所述背板(204)的远离所述成膜空间(50)的表面的位置，使得在所述背板(204)的靠近所述成膜空间(50)的表面生成特定的分布磁场。

本申请是申请日为2011年11月21日，名称为阴极单元，申请号为201180069851.6的申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种利用溅射法的成膜装置内所使用的阴极单元。

本申请在2011年4月26日提出的特愿2011－098427号的基础上要求优先权，并在此援引其内容。

背景技术

在半导体设备领域或平板显示器(FPD)领域中，作为形成各种薄膜的装置，使用溅射装置。

一般的溅射装置中，在腔室内设置有溅射用的阴极，在减压的腔室内与安装在阴极的靶空开规定的间隔对置配置有被处理体。

其次，向腔室内导入氩气(惰性气体)，通过以被处理体接地的状态对靶施加负的电压而使其放电，使通过放电从氩气电离的氩粒子与靶碰撞。而且，通过使从靶飞出的粒子附着在被处理体，从而进行成膜处理。

图10A表示使用溅射法的现有成膜装置700的一例(专利文献1)。

成膜装置700具备多个阴极720。图10B是表示图10A所示的多个阴极720中的一个的放大剖视图(专利文献2)。

如图10B所示，阴极720由溅射用的靶、阴极主体710、阴极安装凸缘701a、绝缘板712、电力供给部E1(E2、E3)和接地部G构成。

靶由背板704和被配置在背板的主面704a上的母材705构成，设置于腔室701的内部，并使用多根螺栓部件安装在阴极主体710上。

在背板704的内部，设置有在母材705的表面上生成泄漏磁通的磁场生成部H1(H2、H3)。

另外，在背板704的内部为了控制靶的温度而设置有由导入冷却水的流道708a及导出冷却水的流道708b构成的循环流道。

阴极主体710设置在腔室701的内部，并使用多根螺栓部件，经由绝缘板712安装在阴极安装凸缘711上。阴极安装凸缘711被接地。

背板704及阴极主体710被形成有使母材705露出腔室内的空间(成膜空间)的开口的接地屏蔽701a覆盖。

接地屏蔽701a为了抑制母材705以外的部分中的放电而被设置。接地屏蔽701a一般以接地状态使用多根螺栓部件安装在腔室(壁部)701上。

根据现有成膜装置700的结构。在一个成膜空间中，使用设置在一个背板的一面上的母材，能够使溅射膜(使用溅射方法形成的膜)均匀地形成在以与母材对置的方式静止的被处理体702上。特别是，即使被处理体702具有相当于多个母材的总面积的宽度的情况下，也能够使溅射膜均匀地形成在被处理体702上。

然而，在使用溅射方法的现有成膜装置700中，各阴极720具备的溅射用靶的母材仅为一种类。即，现有成膜装置700具有只进行使用一种类的母材的成膜处理的结构。

因此，在连续进行多种类的成膜处理的情况下，需要使用与每个成膜的种类对应的各个腔室，必须设置可设置腔室的多个空间。