[发明专利]液晶显示面板及其制作方法

权利要求书

1.一种液晶显示面板，其特征在于，包括：相对设置的下基板(100)与上基板(200)、及夹设于所述下基板(100)和上基板(200)之间的液晶层(300)；

所述下基板(100)包括：第一衬底基板(110)、设置在所述第一衬底基板(110)上的TFT阵列层(120)、设置在所述第一衬底基板(110)及TFT阵列层(120)上的彩色滤光层(130)、设置在所述彩色滤光层(130)上的钝化层(140)、设置在所述钝化层(140)上的第一透明导电层(150)、以及设置在第一透明导电层(150)上的下配向膜(160)；

所述彩色滤光层(130)包括依次连接的数个色阻单元；相邻两色阻单元在交汇处有部分叠加；

所述钝化层(140)在色阻单元叠加部分形成牛角；所述钝化层(140)在对应相邻两色阻单元叠加位置的上方即牛角位置处设有开孔(141)。

2.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述上基板(200)包括：第二衬底基板(210)、设置所述第二衬底基板(210)上的黑色矩阵层(220)、设置在所述第二衬底基板(210)及黑色矩阵层(220)上的第二透明导电层(230)、设置在第二透明导电层(230)上的上配向膜(240)、以及设置在上配向膜(240)上的柱状隔垫物(250)。

3.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述数个色阻单元包括红色色阻单元(131)、绿色色阻单元(132)、及蓝色色阻单元(133)。

4.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述钝化层(140)的材料为氮化硅；所述开孔(141)的长度为5-10um，宽度为5-10um。

5.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第一透明导电层(150)的材料为ITO。

6.一种液晶显示面板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1、提供一第一衬底基板(110)，在所述第一衬底基板(110)上形成TFT阵列层(120)；

步骤2、在所述第一衬底基板(110)及TFT阵列层(120)上形成依次连接的数个色阻单元，得到彩色滤光层(130)，相邻两色阻单元在交汇处有部分叠加；

步骤3、在所述彩色滤光层(130)上形成钝化层(140)，所述钝化层(140)在色阻单元叠加部分形成牛角；在所述钝化层(140)上对应相邻两色阻单元叠加位置的上方即牛角位置处形成开孔(141)；

步骤4、在所述钝化层(140)上沉积ITO材料并在230-260℃的温度条件下对其进行高温处理使结晶，形成第一透明导电层(150)；

在对ITO材料进行高温处理过程中，所述彩色滤光层(130)内的小分子气体通过所述钝化层(140)上的开孔(141)排出；

步骤5、在所述第一透明导电层(150)上形成下配向膜(160)，完成液晶显示面板下基板(100)的制作；

步骤6、提供上基板(200)，将所述下基板(100)与上基板(200)对组，并在下基板(100)和上基板(200)之间注入液晶，形成液晶层(300)，完成液晶显示面板的制作。

7.如权利要求6所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤3中，所形成的钝化层(140)的材料为氮化硅；通过半曝光方法在所述钝化层(140)上蚀刻形成开孔(141)，从而避免过度蚀刻而同时对所述彩色滤光层(130)进行蚀刻。

8.如权利要求6所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤3中所形成的开孔(141)长度为5-10um，宽度为5-10um。

9.如权利要求6所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤4中对ITO材料进行高温处理的时间为30-60min。

10.如权利要求6所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤6中提供的上基板(200)包括：第二衬底基板(210)、设置所述第二衬底基板(210)上的黑色矩阵层(220)、设置在所述第二衬底基板(210)及黑色矩阵层(220)上的第二透明导电层(230)、设置在第二透明导电层(230)上的上配向膜(240)、以及设置在上配向膜(240)上的柱状隔垫物(250)。