[发明专利]一种承载基台、曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 201610214007.2 | 申请日： | 2016-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN105629681B | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | 翟玉漫 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 承载 曝光 装置 方法 | ||
1.一种承载基台，用于承载基板，其特征在于，所述承载基台包括：
第一基台，所述第一基台表面具有多个凸起，所述凸起用于与基板接触并支撑基板；
第二基台，设于所述第一基台具有多个凸起的一面上，所述第二基台具有多个与所述凸起相匹配、并容所述凸起穿过的通孔；
温控单元，用于调节控制所述第一基台和/或所述第二基台的温度，以使基板表面温度相同；
所述温控单元包括与所述第一基台连接的冷却水循环部件，用于降低所述第一基台的温度；
所述温控单元包括与所述第二基台连接的升温部件，用于升高所述第二基台的温度；
所述温控单元调节控制所述第一基台的温度至T1，所述温控单元调节控制所述第二基台的温度至T2，T2大于T1，且T2与T1的差值在0.1-0.3℃范围内。
2.根据权利要求1所述的承载基台，其特征在于，所述第一基台表面的多个凸起成矩阵排列。
3.根据权利要求1所述的承载基台，其特征在于，在垂直于所述第一基台方向上，所述凸起的高度均相同。
4.一种曝光装置，其特征在于，包括权利要求1-3任一项所述的承载基台。
5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置还包括光源和掩膜板。
6.一种曝光方法，其特征在于，采用权利要求4或5所述的曝
光装置进行曝光，具体包括以下步骤：
将基板放置于第一基台的多个凸起上；
调节控制所述第一基台和/或所述第二基台的温度，以使基板靠近承载基台的一侧的表面温度相同；
进行曝光。
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