[发明专利]一种单片集成的多功能紫外/日盲紫外双色探测器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610203082.9 申请日: 2016-03-31
公开(公告)号: CN105870225B 公开(公告)日: 2017-10-20
发明(设计)人: 张权岳 申请(专利权)人: 张权岳
主分类号: H01L31/028 分类号: H01L31/028;H01L31/032;H01L31/109;H01L31/18;G01J1/42
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司33200 代理人: 郑海峰
地址: 322207 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 单片 集成 多功能 紫外 探测器 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种单片集成的多功能紫外/日盲紫外双色探测器,其特征在于由β-Ga2O3薄膜、n型4H-SiC衬底、Ti/Au薄膜电极以及双模开关组成;

所述的β-Ga2O3薄膜厚度为200-500 nm,面积为0.5×0.5~1.5×1.5 cm2,所述的n型4H-SiC衬底作为制备β-Ga2O3薄膜的衬底,所述的β-Ga2O3薄膜面积为n型4H-SiC衬底面积的一半,所述的Ti/Au薄膜电极位于Ga2O3薄膜和n型4H-SiC衬底表面,形状为直径200-300微米的圆形,Ti薄膜电极厚度为20-40 nm, Au薄膜电极在Ti薄膜电极的上方,厚度为60-120 nm,所述双模开关包括可自由切换的开1端、开2端和关闭端,所述双模开关开1端的一边与β-Ga2O3薄膜上的Ti/Au薄膜电极连接,另一边与4H-SiC衬底上的Ti/Au薄膜电极连接,在开1端回路上施加有反向偏压,即4H-SiC衬底上的Ti/Au薄膜电极电位高于β-Ga2O3薄膜上的Ti/Au薄膜电极;所述双模开关开2端的一边与β-Ga2O3薄膜上的Ti/Au薄膜电极连接,另一边与4H-SiC衬底上的Ti/Au薄膜电极连接,在开2端回路上施加有正向偏压,即4H-SiC衬底上的Ti/Au薄膜电极电位低于β-Ga2O3薄膜上的Ti/Au薄膜电极。

2.根据权利要求1所述的单片集成的多功能紫外/日盲紫外双色探测器,其特征在于所述的探测器可以检测到0-120 μW/cm2的紫外线光强信号,并且对波长为254 nm的日盲区紫外光谱有响应。

3.一种如权利要求1所述单片集成的多功能紫外/日盲紫外双色探测器的应用,其特征在于将所述的探测器开关置于正向偏压时,可作为太阳光紫外线强度检测仪。

4.一种如权利要求1所述单片集成的多功能紫外/日盲紫外双色探测器的应用,其特征在于将所述的探测器开关置于反向偏压时,可作为日盲区紫外火焰探测器。

5.一种单片集成的多功能紫外/日盲紫外双色探测器的制备方法,其特征在于该方法具有如下步骤:

1)将n型4H-SiC衬底放入V(HF):V(H2O2)=l:5的溶液中浸泡以去除自然氧化层,然后用丙酮、乙醇和去离子水分别超声清洗,并真空干燥;

2)把Ga2O3靶材放置在激光分子束外延系统的靶台位置,将步骤1)处理后的n型4H-SiC衬底固定在样品托上,放进真空腔;

3)将腔体抽真空,通入氧气,调整真空腔内的压强,加热n型4H-SiC衬底,生长β-Ga2O3薄膜,待薄膜生长完毕,继续通入氧气,调整真空腔内的压强,对所得β-Ga2O3薄膜进行原位退火;其中,Ga2O3靶材与n型4H-SiC衬底的距离设定为5厘米,抽真空后腔体压强为1×10−6 Pa,加热n型4H-SiC衬底时腔体压强为1×10−3 Pa,β-Ga2O3薄膜进行原位退火时腔体压强为1-5Pa,激光能量为5 J/cm2,激光脉冲频率为1Hz,激光的波长为248 nm,n型4H-SiC衬底的加热温度为700-800 °C,β-Ga2O3薄膜的退火温度为700-800 °C,退火时间为1-2小时;

4)利用掩膜版并通过射频磁控溅射技术在Ga2O3薄膜和n型4H-SiC衬底上面沉积一层Ti/Au薄膜作为测量电极。

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