[发明专利]一种球面靶阴极机构及溅射镀膜装置

权利要求书

1.一种球面靶阴极机构，用于对半球面形状的基材进行溅射镀膜，其特征在于，包括：水冷座、密封体、靶材、磁钢部件；

所述水冷座包括支撑台和安装台；所述支撑台固定在溅镀室内部；所述安装台外表面为半球形状表面；所述安装台开设有凹槽；所述支撑台盖设于所述凹槽上，并固定在所述安装台上，以在所述安装台和所述支撑台之间形成一容置空间；

所述靶材对应安装在所述安装台的半球形状表面上，使得所述靶材形成球面靶；

所述密封体设置于所述容置空间内，且固定在所述支撑台上；所述密封体也为半球形状，且和所述安装台的外表面同球心；所述密封体将所述容置空间分隔为第一容置空间和第二容置空间；其中，所述第一容置空间位于所述密封体和所述支撑台之间；所述第二容置空间位于所述密封体和所述安装台之间，以供通入冷却液冷却所述靶材；

所述磁钢部件设置于所述第一容置空间内，且所述磁钢部件排列在所述密封体的内表面上。

2.如权利要求1所述的一种球面靶阴极机构，其特征在于，所述球面靶和所述半球面形状的基材同球心。

3.如权利要求1所述的一种球面靶阴极机构，其特征在于，所述磁钢部件排列在所述密封体的内表面上时，所述磁钢排列形成的结构包括N个环形结构，N≥2且为整数，N个环形结构对应的圆心都在第一轴线上。

4.如权利要求3所述的一种球面靶阴极机构，其特征在于，所述密封体的球面顶点和球心组成第二轴线；

所述第一轴线和所述第二轴线重合。

5.如权利要求1所述的一种球面靶阴极机构，其特征在于，所述安装台的半球形状表面上对应安装有一个半球形状靶材，所述半球形状靶材和所述安装台的半球形状表面同球心。

6.如权利要求1所述的一种球面靶阴极机构，其特征在于，所述安装台的外表面为半球形状多面体结构，每个面上安装一个子靶材，使得所有的子靶材共同构成所述球面靶。

7.如权利要求1所述的一种球面靶阴极机构，其特征在于，所述球面靶的直径范围0.1m～3m。

8.如权利要求1所述的一种球面靶阴极机构，其特征在于，所述第二容置空间和和冷却通道连接。

9.如权利要求3所述的一种球面靶阴极机构，其特征在于，在所述N个环形结构中，第一环形结构中的所有磁钢部件的磁极和第二环形结构中的所有的磁钢部件的磁极相反，其中，第一环形结构和第二环形结构为相邻的环形结构。

10.一种溅射镀膜装置，其特征在于，包括：

溅镀室；

在所述溅镀室中，设置有如权利要求1-9任一权项所述的球面靶阴极机构。