[发明专利]衍射光栅的制造方法、衍射效率计算方法及衍射光栅

说明书

技术领域

本发明涉及一种通过在基板的表面形成衍射光栅槽来制造衍射光栅的方法、计算出衍射光栅的衍射效率的方法、及衍射光栅。

背景技术

在制造衍射光栅时，例如，在基板的表面涂布抗蚀剂(resist)，对所述抗蚀剂的表面进行曝光后，进行显影，由此形成规定的抗蚀剂图案(resist pattern)。接着，通过对抗蚀剂图案进行蚀刻(etching)，在基板的表面形成对应于抗蚀剂图案的衍射光栅槽。作为对抗蚀剂的表面进行曝光的方法，例如，如下方法(双光束干涉曝光)已为人所知，此方法如下述专利文献1所述，通过从两个方向对抗蚀剂的表面进行曝光而产生干涉条纹，在基板的表面形成对应于所述干涉条纹的抗蚀剂图案。

以所述方式制造出的衍射光栅，能够用作主(master)衍射光栅，用以制造复制(replica)衍射光栅。具体来说，使脱模剂在主衍射光栅的表面成膜，在该脱模剂上形成包含铝(aluminum)等金属的薄膜后，通过粘合剂使复制基板粘合在所述金属膜上。接着，在粘合剂固化后，从主衍射光栅上剥离复制基板。由此，金属膜转移至复制基板侧，从而获得复制衍射光栅。

在以所述方式获得的衍射光栅(复制衍射光栅)的整个面上形成有衍射光栅槽。在评估衍射光栅的光学性能时，基于来自衍射光栅槽的反射光的光接收强度、与来自镜子(mirror)表面的反射光的光接收强度，计算出所述两个光接收强度之比作为相对衍射效率，所述来自衍射光栅槽的反射光是通过将光照射至衍射光栅而获得，所述来自镜子表面的反射光是通过将光照射至镜子而获得。

[专利文献1]日本专利特开2001-7020号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

但是，为了利用如上所述的方法来计算出衍射效率，必须准备包含与衍射光栅不同的构件的镜子。接着，对于测定装置而言，需要依次更换衍射光栅与镜子来进行测定。因此，会耗费成本(cost)且测定作业繁琐。

而且，由于衍射光栅与镜子是不同的构件，所以难以在完全相同的条件下形成各构件的反射面。因此，存在如下问题：来自衍射光栅及镜子的反射光的光接收强度会产生与所述条件对应的误差(覆盖层(overcoat)差)，结果无法计算出正确的衍射效率。

本发明是鉴于所述实际情况而成的发明，目的在于，提供衍射光栅的制造方法、衍射效率计算方法及衍射光栅，无需另外准备镜子，而能够容易且正确地计算出衍射效率。

[解决问题的技术手段]

(1)本发明的衍射光栅的制造方法包括抗蚀剂涂布工序、曝光工序、蚀刻工序及掩模(masking)工序。在所述抗蚀剂涂布工序中，在基板表面 涂布抗蚀剂。在所述曝光工序中，通过从两个方向对涂布有抗蚀剂的所述基板表面进行曝光而产生干涉条纹，在所述基板表面形成对应于此干涉条纹的抗蚀剂图案。在所述蚀刻工序中，通过对所述抗蚀剂图案进行蚀刻，在所述基板表面形成对应于此抗蚀剂图案的衍射光栅槽。在所述掩模工序中，在所述抗蚀剂涂布工序与所述曝光工序之间、或所述曝光工序与所述蚀刻工序之间，对所述抗蚀剂的表面的一部分施加掩模。通过所述蚀刻工序获得如下衍射光栅，此衍射光栅在未施加所述掩模的区域中形成有衍射光栅槽，在施加了所述掩模的区域未形成衍射光栅槽。

根据如上所述的结构，在抗蚀剂涂布工序与曝光工序之间、或曝光工序与蚀刻工序之间，对抗蚀剂的表面的一部分施加掩模。因此，通过蚀刻工序获得如下衍射光栅，此衍射光栅在未施加掩模的区域中形成有衍射光栅槽，在施加了掩模的区域中未形成衍射光栅槽。而且，只要将所获得的衍射光栅用作主衍射光栅，则可获得复制衍射光栅。

能够基于将光照射至形成有衍射光栅槽的区域而获得的反射光的光接收强度、与将光照射至未形成衍射光栅槽的区域(镜子表面)而获得的反射光的光接收强度，计算出如上所述的衍射光栅的衍射效率。因此，即使未准备包含与衍射光栅不同的构件的镜子，只要将光照射至设置于衍射光栅的镜子表面即可，因此，无需对衍射光栅与镜子进行更换的作业。而且，因为使用来自镜子表面的反射光计算出衍射效率，所述镜子表面是在与衍射光栅槽完全相同的条件下形成的表面，所以不会产生对应于所述条件的误差(覆盖层差)。结果无需另外准备镜子，能够容易且正确地计算出衍射效率。