[发明专利]一种硅锗固溶体及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201610197314.4 申请日: 2016-04-01
公开(公告)号: CN105839146B 公开(公告)日: 2018-05-04
发明(设计)人: 肖巍;汪的华;周静;曾晨;王海龙 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: C25C5/04 分类号: C25C5/04;C25D3/66;H01M4/38;H01M10/0525
代理公司: 北京高沃律师事务所11569 代理人: 李娜
地址: 430072 湖北省武汉*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 固溶体 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种硅锗固溶体的制备方法,其特征在于,包括方案一或方案二;

所述方案一具体为:以包括硅前驱物和锗前驱物的复合材料作为阴极,以惰性电极作为阳极,以含有CaCl2的熔体为电解液,400~1000℃电解得到硅锗固溶体粉末;

所述方案二具体为:以导电基底作为阴极,以惰性电极作为阳极,以含有硅前驱物、锗前驱物和CaCl2的熔体为电解液,在导电基底上400~1000℃电解得到硅锗固溶体薄膜或硅锗固溶体阵列电极材料。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述硅前驱物中的硅元素与锗前驱物中的锗元素的摩尔比为(0.001~1000):1。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述硅前驱物为二氧化硅和金属硅酸盐中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述锗前驱物为二氧化锗和金属锗酸盐中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述方案一中电解的电位为正于碱金属析出电位,负于-0.2V;

所述方案二中电解的电位为正于碱金属析出电位,负于-0.2V。

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