[发明专利]一种高温石墨烯薄膜应变片

权利要求书

1.一种高温石墨烯薄膜应变片装置，具有通过测量电阻的变化而对应变进行测定的功能，其特征是该应变片具有耐高温、稳定性好、长时间测量，产品测量结果稳定。

2.根据权利要求1所述的高温石墨烯薄膜应变片装置，其特征在于该装置的具体步骤如下：

步骤(1). 利用化学气相沉淀法制备的石墨烯薄膜，它把结构部件的变形转换成敏感栅的电阻变化，通过电桥电路变换成电压输出；

步骤(2). 框架是由紫铜或聚四氟乙烯增强的氟塑料，厚度约0.1-0.2mm，其长度与宽度视具体要求而定。框架可以用光刻蚀刻的方法（对于金属材料），也可用精密冲压方法实现；

步骤(3). 胶黏剂一般采用磷酸盐加填料的无机胶黏剂，它是以磷酸二氢铝为主体，加入适量的无机填料制成的。胶黏剂把应变片粘贴到结构部件上，通过它把构件的变形传递到应变片的敏感栅上；

步骤(4). 引出线是采用扁带（0.05mmⅹ0.05mm），每根长度约30mm，采用储能点焊机焊接，焊接后的引出线，即刻用硝酸纤维素胶固定。

3.根据权利要求2所述的高温石墨烯薄膜应变片装置，其特征在于，该装置亦可使用陶瓷基片作为基底。

4.根据权利要求3所述的高温石墨烯薄膜应变片装置，其特征在于，所述的高温薄膜应变片是采用真空蒸发或溅射方式制取的。

5.根据权利要求2所述的高温石墨烯薄膜应变片装置，其特征在于，所述引出线材料可选用铁铬铝扁带。

6.根据权利要求2所述的高温石墨烯薄膜应变片装置，其特征在于，该装置亦可设计为常温薄膜应变片，采用胶膜基底。

7.根据权利要求6所述的高温石墨烯薄膜应变片装置，其特征在于，所述的胶膜基底可采用平台静止成膜法、刮胶成膜法或旋转成膜法制成。

8.根据权利要求2所述的高温石墨烯薄膜应变片装置，其特征在于，该装置亦可采用喷涂法安装于试件部位上。

9.根据权利要求8所述的高温石墨烯薄膜应变片装置，其特征在于，所述的喷涂法可采用陶瓷喷涂，即以氧化铝陶瓷棒（陶瓷粉末）为原料，由氧-乙炔火焰（或等离子体）熔化后，喷涂至试件表面上，用于安装石墨烯薄膜应变片。

10.根据权利要求2所述的高温石墨烯薄膜应变片装置，其特征在于，为了防止该装置的薄膜几何形状的损坏，通常采用由两块有机玻璃夹持，然后用胶带密封储存于低温、干燥的环境。