[发明专利]模具及其形成方法、图像传输结构的形成方法在审

专利信息
申请号: 201610192240.5 申请日: 2016-03-30
公开(公告)号: CN107283691A 公开(公告)日: 2017-10-24
发明(设计)人: 朱虹;房伟;林崴平;凌严 申请(专利权)人: 上海瑞艾立光电技术有限公司
主分类号: B29C33/38 分类号: B29C33/38;H01L27/146
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 吴敏
地址: 201203 上海市浦东新区中国(上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 模具 及其 形成 方法 图像 传输 结构
【权利要求书】:

1.一种模具的形成方法,其特征在于,包括:

提供基底;

在所述基底表面形成具有开口的掩膜层;

沿所述开口刻蚀基底,在基底内形成凹槽,所述凹槽底部与侧壁的连接处呈圆弧状;

形成覆盖所述凹槽内部表面以及掩膜层的疏水性膜。

2.根据权利要求1所述的模具的形成方法,其特征在于,所述基底材料为玻璃。

3.根据权利要求1所述的模具的形成方法,其特征在于,所述掩膜层材料为氧化铟锡或氮化硅。

4.根据权利要求1所述的模具的形成方法,其特征在于,采用湿法刻蚀工艺刻蚀基底。

5.根据权利要求1所述的模具的形成方法,其特征在于,所述湿法刻蚀工艺采用的刻蚀溶液为氢氟酸溶液。

6.根据权利要求1所述的模具的形成方法,其特征在于,所述开口的宽度为3μm以上。

7.根据权利要求1所述的模具的形成方法,其特征在于,所述凹槽的深度为0.05mm~2mm。

8.根据权利要求1所述的模具的形成方法,其特征在于,所述疏水性膜为防污膜。

9.根据权利要求1所述的模具的形成方法,其特征在于,所述凹槽数量为两个以上。

10.根据权利要求1所述的模具的形成方法,其特征在于,所述掩膜层的形成方法包括:在基底表面形成掩膜材料层之后,刻蚀掩膜材料层形成具有开口的掩膜层;或者采用丝网印刷工艺形成所述掩膜层。

11.根据权利要求1至10中任一模具的形成方法所形成的模具,其特征在于, 包括:

基底;

位于所述基底表面具有开口的掩膜层;

位于所述开口下方的基底内的凹槽,所述凹槽底部与侧壁的连接处呈圆弧状;

覆盖所述凹槽内部表面以及掩膜层的疏水性膜。

12.一种图像传输结构的形成方法,其特征在于,包括:

提供如权利要求11所述的模具;

形成覆盖所述模具的疏水性膜并填充满所述凹槽的透明的可流动胶层;

在所述可流动胶层表面贴合感光芯片;

将所述可流动胶层固化,形成固化胶层;

将贴合有感光芯片的固化胶层与模具分离。

13.根据权利要求12所述的图像传输结构的形成方法,其特征在于,所述可流动胶层的材料为UV胶或硅胶。

14.根据权利要求12所述的图像传输结构的形成方法,其特征在于,采用紫外光照射或热处理使所述可流动胶层固化。

15.根据权利要求12所述的图像传输结构的形成方法,其特征在于,采用真空吸盘吸附感光芯片,使所述贴合有感光芯片的固化胶层与模具分离。

16.根据权利要求12所述的图像传输结构的形成方法,其特征在于,若干感光芯片相互分离,分别贴合至可流动胶层表面,并且分别与模具分离。

17.根据权利要求12所述的图像传输结构的形成方法,其特征在于,若干感光芯片形成于同一衬底上,同时贴合至可流动胶层表面,并且同时与模具分离;与模具分离后,还包括:切割所述衬底及固化胶层,使感光芯片相互分离。

18.根据权利要求12所述的图像传输结构的形成方法,其特征在于,所述感光芯片的数量与凹槽数量一致、且感光芯片位置与凹槽位置一一对应。

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