[发明专利]一种液晶显示面板、显示装置在审

专利信息
申请号: 201610190261.3 申请日: 2016-03-30
公开(公告)号: CN105700246A 公开(公告)日: 2016-06-22
发明(设计)人: 彭邦银 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 液晶显示 面板 显示装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及液晶显示技术领域,特别是涉及一种液晶显示面板,以及应用 该液晶显示面板的显示装置。

背景技术

UV2A(UltravioletVerticalAlignment)技术是一种采用紫外线对垂直配向 液晶显示器中的液晶进行配向的技术,其基本原理是在玻璃基板上涂有对紫外 线具有反应的高分子材料的配向膜,在紫外线的照射下,配向膜表面的高分子 主链会沿着紫外线照射的方向倾斜,从而使得液晶分子可以沿着这个主链方向 倾斜。目前这种技术主要应用在具有大视角的垂直配向模式液晶显示器上,提 高了大视角液晶显示器的开口率、对比度、响应速度等特性。

但由于UV2A技术采用特殊的正交垂直光配相方式,使得液晶显示器在亮 态时,在子像素上形成“卐”的万字暗纹,万字暗纹的出现降低了液晶显示器 的透光率。为了解决这个问题,目前采用的方法主要有:将万字暗纹的边缘外 推到黑色矩阵处,使用黑色矩阵将万字暗纹的边缘遮挡住,或者将上电极的边 缘的特定位置设计成放射性狭缝,将ITO电极边缘电场对液晶分子的作用力外 移,从而将由边缘场效应引起的横竖暗纹外移出ITO的开口区,但这些方法仅 仅是减弱了万字暗纹的边缘上的横竖暗纹,而对万字暗纹中间的十字暗纹没有 影响。

因此,有必要提供一种液晶显示面板及应用该液晶显示面板的显示装置, 通过在上电极和/或下电极的相应位置上设置狭缝,当液晶显示面板处于亮态 时,通过狭缝的电场作用使得液晶分子发生相应的偏转,进而使得子像素中原 本为十字暗纹的位置可以有一定的光出射,从而减弱十字暗纹,增加液晶显示 面板的透光率。

发明内容

本发明实施例提供一种液晶显示面板,以减弱现有的液晶显示面板中出现 的暗纹,进而增加液晶显示面板的透光率。

本发明实施例提供一种液晶显示面板,所述液晶显示面板包括多个子像素 单元,每个子像素单元包括上电极、液晶层和下电极,其中,子像素单元包括 四个透光区,且相邻的透光区具有不同的配向方向,相邻透光区的交界包括水 平交界或竖直交界,所述液晶显示面板还包括:

在相邻透光区的交界所对应的上电极和/或下电极的相应位置上设置狭缝, 狭缝的开口方向平行于狭缝所在透光区中液晶分子的配向方向。

本发明实施例提供的液晶显示面板中,所述狭缝分别设置在相邻透光区的 水平交界所对应的上电极和/或下电极的相应位置的两侧。

本发明实施例提供的液晶显示面板中,处于相邻透光区的水平交界所对应 的上电极和/或下电极的相应位置的两侧的狭缝相通连接。

本发明实施例提供的液晶显示面板中,所述狭缝分别设置在相邻透光区的 竖直交界所对应的上电极和/或下电极的相应位置的两侧。

本发明实施例提供的液晶显示面板中,处于相邻透光区的竖直交界所对应 的上电极和/或下电极的相应位置的两侧的狭缝相通连接。

本发明实施例提供的液晶显示面板中,所述狭缝分别设置在相邻透光区的 水平交界和竖直交界所对应的上电极和/或下电极的相应位置的两侧。

本发明实施例提供的液晶显示面板中,水平交界与竖直交界相交处为交界 中心,所述狭缝设置在距所述交界中心预定范围内的水平交界和/或竖直交界所 对应的上电极和/或下电极的相应位置上。

本发明实施例提供的液晶显示面板中,距所述交界中心所对应的上电极和/ 或下电极的相应位置相同距离的相邻狭缝相通连接。

本发明实施例提供的液晶显示面板中,处于相邻透光区交界处的狭缝呈周 期性排列。

本发明实施例提供的液晶显示面板中,所述狭缝与水平交界或竖直交界所 对应的上电极和/或下电极的相应位置呈45°角。

本发明还提供一种显示装置,所述显示装置包括上述任意一项所述的液晶 显示面板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610190261.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top