[发明专利]扇出线结构、显示面板及其制造方法有效
| 申请号： | 201610185117.0 | 申请日： | 2016-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN105679744A | 公开（公告）日： | 2016-06-15 |
| 发明（设计）人： | 王劭颛;金熙哲 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/538 | 分类号： | H01L23/538;H01L21/48 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 唐立;景军平 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 出线 结构 显示 面板 及其 制造 方法 | ||
1.一种扇出线结构，其特征在于，包括多条长度不一的扇出线；
每条所述扇出线均包括布线层；
至少部分所述扇出线的所述布线层之上设置有与布线层电连接的附加导电膜；
多条所述扇出线的阻抗相同。
2.根据权利要求1所述的扇出线结构，其特征在于，不同长度的所述布线层的阻抗不 同。
3.根据权利要求2所述的扇出线结构，其特征在于，多条所述扇出线中，除长度最短的 布线层外，其余多条所述扇出线中的布线层均设置有与布线层电连接的附加导电膜。
4.根据权利要求2所述的扇出线结构，其特征在于，多条所述扇出线中，每条所述布线 层均设置有与布线层电连接的附加导电膜。
5.根据权利要求3或4所述的扇出线结构，其特征在于，所述附加导电膜厚度及宽度一 致。
6.根据权利要求2所述的扇出线结构，其特征在于，设置有所述附加导电膜的多条扇出 线中，设置在不同长度的所述布线层之上的附加导电膜的长度不同。
7.根据权利要求1所述的扇出线结构，其特征在于，所述附加导电膜连续地或分段地设 置在所述布线层之上。
8.根据权利要求1所述的扇出线结构，其特征在于，所述附加导电膜材料与所述布线层 的材料相同。
9.根据权利要求1所述的扇出线结构，其特征在于，所述附加导电膜材料与所述布线层 的材料不同，且附加导电膜材料电阻率小于所述布线层材料的电阻率。
10.一种显示面板，其特征在于，包括驱动电路模块和TFT阵列，以及如权利要求1至9 任一项所述的扇出线结构，所述扇出线结构用于连接驱动电路模块与TFT阵列。
11.一种显示面板的制造方法，其特征在于，包括：
提供预设有扇出区的衬底；
在预设的所述扇出区通过沉积形成第一导电层；
在所述第一导电膜表面形成第二导电层；以及
通过刻蚀第一导电层和第二导电层分别形成所述布线层和附加导电膜。
12.根据权利要求11所述的制造方法，其特征在于，通过刻蚀第一导电层和第二导电层 分别形成所述布线层和附加导电膜包括：
在所述第二导电层上涂覆光刻胶；
通过半色调掩膜板对所述光刻胶曝光显影，形成光刻胶完全保留区域、光刻胶半保留 区域以及光刻胶完全去除区域；
以所述光刻胶完全保留区域和光刻胶半保留区域的光刻胶为掩膜刻蚀所述第一导电 层和第二导电层以形成多条布线层；
对所述光刻胶完全保留区域和光刻胶半保留区域的光刻胶同时进行灰化处理以暴露 所述光刻胶半保留区域对应的部分第二导电层；
对暴露的所述部分第二导电层进行刻蚀以形成附加导电膜；以及
去除剩余的光刻胶。
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