[发明专利]一种激光补光装置及其光照控制方法在审
申请号: | 201610175303.6 | 申请日: | 2016-03-25 |
公开(公告)号: | CN105589206A | 公开(公告)日: | 2016-05-18 |
发明(设计)人: | 刘磊 | 申请(专利权)人: | 刘磊 |
主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09;G02B27/48 |
代理公司: | 深圳市君胜知识产权代理事务所 44268 | 代理人: | 王永文;朱阳波 |
地址: | 518004 广东省深圳市罗湖区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 激光 装置 及其 光照 控制 方法 | ||
1.一种激光补光装置,其设置包括一用于发射激光的激光器,其特征在于,还包括:
设置在所述激光器前方的用于把所述激光器发出的激光束进行聚焦的第一透镜装置;
设置在所述第一透镜装置前方的匀化片;
以及设置在所述匀化片前方的第二透镜装置;
所述激光器、第一透镜装置、匀化片、及所述第二透镜装置依次设置在同一光轴上,且所述第二透镜装置沿所述光轴可前后移动;所述匀化片通过一直流无刷电机驱动而进行周期性转动;
其中,所述激光补光装置,其还包括一转速调节控制模块,用于根据光线的强弱变化进而调整所述直流无刷电机的转速。
2.根据权利要求1所述的激光补光装置,其特征在于,其还包括,设置在第二透镜装置光路前方的一负透镜,所述负透镜与所述第二透镜装置设置在同一光轴上。
3.根据权利要求1所述的激光补光装置,其特征在于,所述直流无刷电机转速调整区间为1000~30000转/分钟。
4.根据权利要求1所述的激光补光装置,其特征在于,所述激光器为半导体激光器。
5.根据权利要求4所述的激光补光装置,其特征在于,所述半导体激光器为单芯片发光的激光器,所述单芯片发光的激光器光功率范围为2-20瓦。
6.根据权利要求1所述的激光补光装置,其特征在于,所述第一透镜装置为起聚焦作用的平凸透镜、双凸透镜、非球面镜或自聚焦透镜。
7.根据权利要求1所述的激光补光装置,其特征在于,所述匀化片为毛玻璃、微透镜阵列或复眼透镜。
8.根据权利要求1所述可连续调节光照角度的红外激光补光装置,其特征在于,所述匀化片的位置在所述短焦聚焦透镜聚焦激光束的汇聚处,且激光束在所述光束分割器上汇聚的光斑大小小于2.5mm×2.5mm。
9.根据权利要求1所述的激光补光装置,其特征在于,所述第二透镜装置为正透镜或正透镜组。
10.根据权利要求9所述的激光补光装置,其特征在于,所述正透镜包括平凸透镜、双凸透镜、凹凸透镜、非球面镜或自聚焦透镜;所述正透镜组为平凸透镜、双凸透镜、凹凸透镜、非球面透镜、自聚焦透镜中至少两个的组合。
11.一种如权利要求1-10任一项所述的激光补光装置光照控制方法,其特征在于,所述方法包括:
激光器发出的激光束经第一透镜装置后,激光束被汇聚到进行周期性转动的匀化片上面,激光束在所述匀化片上汇聚的光斑大小小于2.5mm×2.5mm,激光束被周期性转动的匀化片匀化散射;通过第二透镜装置沿光轴移动时,调节装置光照角度;同时通过转速调节控制模块根据光线的强弱变化进而调整直流无刷电机的转速。
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